Universidade Nova de Lisboa (UNL)
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
Only validated by team members publications are included.
Only the current year team is included in this action.>
The action is executed in the background, thus the results are NOT immediate.
This actions can be executed only once a month!
Only validated by current year team members publications are included.
The action is executed in the background, thus the results are NOT immediate.
This actions can be executed only once a day!
Publications Count: 13023
451 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Gomes, L ; Costa, AK ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: IEEE International Conference on Microelectronic Systems Education in 2005 IEEE International Conference on Microelectronic Systems Education, Proceedings, VOLUME: 2005, PÁGINAS: 21-22
AUTORES: Matos, CT; Velizarov, S ; Crespo, JG ; Reis, MAM ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 3rd IWA Leading-Edge Conference Water and Wastewater Treatment Technologies in Leading-Edge Technology 2005 - Water Treatment, VOLUME: 5, NÚMERO: 5, PÁGINAS: 9-14
AUTORES: Velizarov, S ; Matos, C; Reis, M ; Crespo, J ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: Conference on Membranes in Drinking and Industrial Water Production in DESALINATION, VOLUME: 178, NÚMERO: 1-3, PÁGINAS: 203-210
AUTORES: Ribeiro, AB ; Rodriguez Maroto, JM; Mateus, EP ; Gomes, H;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: CHEMOSPHERE, VOLUME: 59, NÚMERO: 9, PÁGINAS: 1229-1239
AUTORES: Ferreira, C ; Jensen, P; Ottosen, L; Ribeiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 4th International Symposium on Electrokinetic Remediation (EREM) in ENGINEERING GEOLOGY, VOLUME: 77, NÚMERO: 3-4, PÁGINAS: 339-347
AUTORES: Filipe, SR ; Tomasz, A; Ligoxygakis, P;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: EMBO REPORTS, VOLUME: 6, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 327-333
AUTORES: Cerdeira, JO ; Pinto, LS ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF COMBINATORIAL OPTIMIZATION, VOLUME: 9, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 35-47
AUTORES: Palma, LB ; Coito, FV ; da Silva, RN ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: ENGINEERING INTELLIGENT SYSTEMS FOR ELECTRICAL ENGINEERING AND COMMUNICATIONS, VOLUME: 13, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 237-244
AUTORES: Canhola, P; Martins, N; Raniero, L; Pereira, S; Fortunato, E ; Ferreira, I ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 8th International Conference on Polycrystalline Semiconductors in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 487, NÚMERO: 1-2, PÁGINAS: 271-276
AUTORES: Raniero, L; Zhang, S; Aguas, H ; Ferreira, I ; Igreja, R ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 8th International Conference on Polycrystalline Semiconductors in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 487, NÚMERO: 1-2, PÁGINAS: 170-173
AUTORES: Martins, R ; Igreja, R ; Ferreira, I ; Marques, A; Pimentel, A ; Goncalves, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: Symposium on Functional Oxides for Advanced Semiconductor Technologies in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, VOLUME: 118, NÚMERO: 1-3, PÁGINAS: 135-140
AUTORES: Dionisio, MSC ; Diogo, HP ; Farinha, JPS ; Ramos, JJM ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF CHEMICAL EDUCATION, VOLUME: 82, NÚMERO: 9, PÁGINAS: 1355-1360
AUTORES: Imbriani, G; Costantini, H; Formicola, A; Vomiero, A; Angulo, C; Bemmerer, D; Bonetti, R; Broggini, C; Confortola, F; Corvisiero, P; Cruz, J ; Descouvemont, P; Fulop, Z; Gervino, G; Guglielmetti, A; Gustavino, C; Gyurky, G; Jesus, AP ; Junker, M; Klug, JN; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: EUROPEAN PHYSICAL JOURNAL A, VOLUME: 25, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 455-466
AUTORES: Fernandes, AR ; Mira, NP ; Vargas, RC; Canelhas, I; Sa Correia, I ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: BIOCHEMICAL AND BIOPHYSICAL RESEARCH COMMUNICATIONS, VOLUME: 337, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 95-103
AUTORES: Oliveira, R ; Bernardo, L ; Ruivo, N; Pinto, P;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: Conference on Telecommunications in Telecommunications 2005, Proceedings, VOLUME: 2005, PÁGINAS: 371-376
AUTORES: Silva, AG ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 6th International Conference on Optics of Surfaces and Interfaces in Physica Status Solidi C - Conferences and Critical Reviews, Vol 2 , No 12, VOLUME: 2, NÚMERO: 12, PÁGINAS: 3988-3992
AUTORES: Pantoquilho, M; Viana, N; Ferreira, R; Moura M Pires ; Donati, A; Baumgartner, A; Di Marco, F; Penin, L; Hormigo, T;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 2005 IEEE Aerospace Conference in 2005 IEEE AEROSPACE CONFERENCE, VOLS 1-4, VOLUME: 2005, PÁGINAS: 4040-4052
AUTORES: Fernando Pinho; Manuel Baião; Válter Lúcio ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: IABSE Symposium, Lisbon 2005: Structures and Extreme Events
AUTORES: Goncalves Coelho, AM ; Mourao, AJF ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: 2nd International Conference on Advanced Research and Rapid Prototyping in VIRTUAL MODELING AND RAPID MANUFACTURING: ADVANCED RESEARCH IN VIRTUAL AND RAPID PROTOTYPING, PÁGINAS: 533-538
AUTORES: Costa, T ; Miguel, MG ; Lindman, B; Schillen, K; Lima, JC; de Melo, JS ;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B, VOLUME: 109, NÚMERO: 8, PÁGINAS: 3243-3251