Universidade Nova de Lisboa (UNL)
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 13023
451 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Alfaiate, J; Gago, A; de Almeida, JR ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 2nd International Conference on Structural and Construction Engineering in SYSTEM-BASED VISION FOR STRATEGIC AND CREATIVE DESIGN, VOLS 1-3, PÁGINAS: 769-774
AUTORES: Rodrigo, AJS; Mota, JPB ; Lefevre, A; Saatdjian, E;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: PHYSICS OF FLUIDS, VOLUME: 15, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 1505-1516
AUTORES: Johnson, CR; Duarte, AL ; Saiago, CM ; Sutton, BD; Witt, AJ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Workshop on Nonnegative Matrices, M-matrices and Generalizations in LINEAR ALGEBRA AND ITS APPLICATIONS, VOLUME: 363, PÁGINAS: 147-159
AUTORES: Eusebio, MFJ; Barreiros, AM; Fortunato, R; Reis, MAM ; Crespo, JG ; Mota, JPB ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 13th European Symposium on Computer Aided Process Engineering (ESCAPE-13) in EUROPEAN SYMPOSIUM ON COMPUTER AIDED PROCESS ENGINEERING - 13, VOLUME: 14, NÚMERO: C, PÁGINAS: 1079-1084
AUTORES: Niehus, M; Sanguino, P; Monteiro, T ; Soares, MJ ; Pereira, E; Vieira, M ; Koynov, S; Schwarz, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Spring Meeting of the European-Materials-Research-Society (E-MRS) in SOLID-STATE ELECTRONICS, VOLUME: 47, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 569-573
AUTORES: Fortunato, R; Afonso, CA ; Crespo, JG ; Reis, MA ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Communications in agricultural and applied biological sciences, VOLUME: 68, NÚMERO: 2 Pt A, PÁGINAS: 41-46
AUTORES: Valente, A ; Palma, C; Fonseca, IM ; Ramos, AM ; Vital, J ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: CARBON, VOLUME: 41, NÚMERO: 14, PÁGINAS: 2793-2803
AUTORES: Capelo, JL ; Pedro, HA; Mota, AM ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: TALANTA, VOLUME: 61, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 485-491
AUTORES: Videira, N ; Antunes, P ; Santos, R ; Gamito, S ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Journal of Environmental Assessment Policy and Management, VOLUME: 5, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 421-447
AUTORES: Dinis, R ; Gusmao, A;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: IEEE Global Telecommunications Conference (GLOBECOM 03) in GLOBECOM'03: IEEE GLOBAL TELECOMMUNICATIONS CONFERENCE, VOLS 1-7, VOLUME: 1, PÁGINAS: 20-24
AUTORES: Palhau, A; Dinis, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: IEEE Global Telecommunications Conference (GLOBECOM 03) in GLOBECOM'03: IEEE GLOBAL TELECOMMUNICATIONS CONFERENCE, VOLS 1-7, VOLUME: 6, PÁGINAS: 3392-3396
AUTORES: Alessandro, B; Alexa, C; Arnaldi, R; Astruc, J; Atayan, M; Baglin, C; Baldit, A; Beole, S; Boldea, V; Bordalo, P; Borges, G ; Bussiere, A; Capelli, L; Caponi, V; Castanier, C; Castor, J; Chaurand, B; Chevrot, I; Cheynis, B; Chiavassa, E; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: PHYSICS LETTERS B, VOLUME: 555, NÚMERO: 3-4, PÁGINAS: 147-154
AUTORES: Figueiredo, MO ; da Silva, TP; Veiga, JP ; Chevallier, P;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 7th International Conference on X-Ray Microscopy in JOURNAL DE PHYSIQUE IV, VOLUME: 104, PÁGINAS: 399-402
AUTORES: Beeching, LJ; Dias, AA ; Dyke, JM; Morris, A; Stranges, S; West, JB; Zema, N; Zuin, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: MOLECULAR PHYSICS, VOLUME: 101, NÚMERO: 4-5, PÁGINAS: 575-582
AUTORES: Encarnacao, AC; Flores, A; Mota, SI; Palma, C; Ramos, AM ; Vital, J ; Fonseca, IM ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 4th International Symposium on Groupd Five Compounds in CATALYSIS TODAY, VOLUME: 78, NÚMERO: 1-4, PÁGINAS: 197-201
AUTORES: Aguas, H ; Cabarrocas, PRI; Lebib, S; Silva, V; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 4th Symposium on Thin Films for Large Area Electronics held at the EMRS 2002 Spring Conference in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 427, NÚMERO: 1-2, PÁGINAS: 6-10
AUTORES: Martins, R ; Aguas, H ; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Lebib, S; Cabarrocas, PRI; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, VOLUME: 9, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 333-337
AUTORES: Martins, R ; Aguas, H ; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Lebib, S; I Cabarrocas, PR; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Chemical Vapor Deposition, VOLUME: 9, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 333-337
AUTORES: Aguas, H ; Raniero, L; Pereira, L ; Fortunato, E ; Cabarrocas, PRI; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Symposium on Amorphous and Nanocrystalline Silicon-Based Films held at the 2003 MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND NANOCRYSTALLINE SILICON-BASED FILMS-2003, VOLUME: 762, PÁGINAS: 589-594
AUTORES: Ferreira, C ; Ribeiro, A ; Ottosen, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: JOURNAL OF HAZARDOUS MATERIALS, VOLUME: 96, NÚMERO: 2-3, PÁGINAS: 201-216