Universidade Nova de Lisboa (UNL)
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 13034
451 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Palhau, A; Dinis, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: IEEE Global Telecommunications Conference (GLOBECOM 03) in GLOBECOM'03: IEEE GLOBAL TELECOMMUNICATIONS CONFERENCE, VOLS 1-7, VOLUME: 6, PÁGINAS: 3392-3396
AUTORES: Rebelo, LPN; Najdanovic Visak, V; de Azevedo, RG; Esperanca, JM; da Ponte, MN ; Guedes, HJ; Visak, ZP; de Sousa, HC ; Szydlowski, J; Lopes, JNC;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 226th National Meeting of the American-Chemical-Society in ABSTRACTS OF PAPERS OF THE AMERICAN CHEMICAL SOCIETY, VOLUME: 226
AUTORES: Alessandro, B; Alexa, C; Arnaldi, R; Astruc, J; Atayan, M; Baglin, C; Baldit, A; Beole, S; Boldea, V; Bordalo, P; Borges, G ; Bussiere, A; Capelli, L; Caponi, V; Castanier, C; Castor, J; Chaurand, B; Chevrot, I; Cheynis, B; Chiavassa, E; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: PHYSICS LETTERS B, VOLUME: 555, NÚMERO: 3-4, PÁGINAS: 147-154
AUTORES: Figueiredo, MO ; da Silva, TP; Veiga, JP ; Chevallier, P;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 7th International Conference on X-Ray Microscopy in JOURNAL DE PHYSIQUE IV, VOLUME: 104, PÁGINAS: 399-402
AUTORES: Beeching, LJ; Dias, AA ; Dyke, JM; Morris, A; Stranges, S; West, JB; Zema, N; Zuin, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: MOLECULAR PHYSICS, VOLUME: 101, NÚMERO: 4-5, PÁGINAS: 575-582
AUTORES: Encarnacao, AC; Flores, A; Mota, SI; Palma, C; Ramos, AM ; Vital, J ; Fonseca, IM ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 4th International Symposium on Groupd Five Compounds in CATALYSIS TODAY, VOLUME: 78, NÚMERO: 1-4, PÁGINAS: 197-201
AUTORES: Aguas, H ; Cabarrocas, PRI; Lebib, S; Silva, V; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 4th Symposium on Thin Films for Large Area Electronics held at the EMRS 2002 Spring Conference in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 427, NÚMERO: 1-2, PÁGINAS: 6-10
AUTORES: Martins, R ; Aguas, H ; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Lebib, S; Cabarrocas, PRI; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: CHEMICAL VAPOR DEPOSITION, VOLUME: 9, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 333-337
AUTORES: Martins, R ; Aguas, H ; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Lebib, S; I Cabarrocas, PR; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Chemical Vapor Deposition, VOLUME: 9, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 333-337
AUTORES: Aguas, H ; Raniero, L; Pereira, L ; Fortunato, E ; Cabarrocas, PRI; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Symposium on Amorphous and Nanocrystalline Silicon-Based Films held at the 2003 MRS Spring Meeting in AMORPHOUS AND NANOCRYSTALLINE SILICON-BASED FILMS-2003, VOLUME: 762, PÁGINAS: 589-594
AUTORES: Ferreira, C ; Ribeiro, A ; Ottosen, L;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: JOURNAL OF HAZARDOUS MATERIALS, VOLUME: 96, NÚMERO: 2-3, PÁGINAS: 201-216
AUTORES: Albelda, MT; Aguilar, J; Alves, S; Aucejo, R; Diaz, P; Lodeiro, C ; Lima, JC ; Garcia Espana, E; Pina, F ; Soriano, C;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: HELVETICA CHIMICA ACTA, VOLUME: 86, NÚMERO: 9, PÁGINAS: 3118-3135
AUTORES: Brito, D ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF INDUSTRIAL ORGANIZATION, VOLUME: 21, NÚMERO: 10, PÁGINAS: 1601-1622
AUTORES: Pinho, FT ; Oliveira, PJ ; Miranda, JP;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF HEAT AND FLUID FLOW, VOLUME: 24, NÚMERO: 5, PÁGINAS: 747-761
AUTORES: Najdanovic Visak, V; Esperanca, JMSS; Rebelo, LPN ; da Ponte, MN ; Guedes, HJR; Seddon, KR; de Sousa, HC ; Szydlowski, J;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY B, VOLUME: 107, NÚMERO: 46, PÁGINAS: 12797-12807
AUTORES: Frangopol, DM; Neves, LC ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Life-Cycle Performance of Deteriorating Structures: Assessment, Design and Management in Life-Cycle Performance of Deteriorating Structures, PÁGINAS: 9-18
AUTORES: Lemos, PC; Serafim, LS ; Santos, H ; Reis, MA ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: Communications in agricultural and applied biological sciences, VOLUME: 68, NÚMERO: 2 Pt A, PÁGINAS: 109-114
AUTORES: Reis, MAM ; Serafim, LS ; Lemos, PC; Ramos, AM ; Aguiar, FR; Van Loosdrecht, MCM;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: BIOPROCESS AND BIOSYSTEMS ENGINEERING, VOLUME: 25, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 377-385
AUTORES: Krippahl, L; Barahona, P ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 9th International Conference on Principles and Practice of Constraint Programming in PRINCIPLES AND PRACTICE OF CONSTRAINT PROGRAMMING - CP 2003, PROCEEDINGS, VOLUME: 2833, PÁGINAS: 452-465
AUTORES: de Carvalho, CN ; Lavareda, G ; Fortunato, E ; Amaral, A ;
PUBLICAÇÃO: 2003, FONTE: 4th Symposium on Thin Films for Large Area Electronics held at the EMRS 2002 Spring Conference in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 427, NÚMERO: 1-2, PÁGINAS: 215-218