Universidade Nova de Lisboa (UNL)
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 13034
451 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Vieira, M ; Fernandes, M ; Martins, J; Louro, P ; Macarico, A; Schwarz, R ; Schubert, M;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Amorphous and Heterogeneus Silicon Thin Films-2000 in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 609
AUTORES: Martins, R ; Ferreira, I ; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 18th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors (ICAMS 18) in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 266, PÁGINAS: 1094-1098
AUTORES: Mota, JPB ; Rodrigo, AJS;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 2nd Pacific Basin Conference on Adsorption Science and Technology in ADSORPTION SCIENCE AND TECHNOLOGY, PÁGINAS: 436-440
AUTORES: Batista, JF; Pereira, RFC; Lopes, JM; Carvalho, MFM ; Feio, MJ ; Reis, MAM ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 4th International Symposium of Environmental Biotechnology (ISEB 4) in BIODEGRADATION, VOLUME: 11, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 441-448
AUTORES: Araujo, CSA; Marques, SAF; Carrondo, MJT ; Goncalves, LMD;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 2nd Iberian Congress on Environmental Contamination and Toxicology in SCIENCE OF THE TOTAL ENVIRONMENT, VOLUME: 247, NÚMERO: 2-3, PÁGINAS: 127-135
AUTORES: Célia Costa Cabral ; Praveen Kujal; Emmanuel Petrakis;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: The Economics and Econometrics of Innovation, PÁGINAS: 457-471
AUTORES: Vigário R. ; Oja E.;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Neural Networks, VOLUME: 13, NÚMERO: 8-9, PÁGINAS: 891-907
AUTORES: Vigario, R ; Sarela, J; Jousmiki, V; Hamalainen, M; Oja, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: IEEE Transactions on Biomedical Engineering, VOLUME: 47, NÚMERO: 5, PÁGINAS: 589-593
AUTORES: Ricardo Vigârio ; Jaakko Särelä; Veikko Jousmäki; Matti Hämäläinen; Erkki Oja;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: IEEE Transactions on Biomedical Engineering, VOLUME: 47, NÚMERO: 5, PÁGINAS: 589-593
AUTORES: Fantoni, A ; Vieira, M ; Schwarz, R ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Amorphous and Heterogeneus Silicon Thin Films-2000 in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 609
AUTORES: Aguas, H ; Martins, R ; Nunes, Y ; Maneira, M; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Colloidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382, PÁGINAS: 11-20
AUTORES: Waerenborgh, JC ; Salamakha, P; Sologub, O; Goncalves, AP ; Cardoso, C; Serio, S ; Godinho, M ; Almeida, M ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: CHEMISTRY OF MATERIALS, VOLUME: 12, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 1743-1749
AUTORES: Filipe, SR ; Tomasz, A;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: PROCEEDINGS OF THE NATIONAL ACADEMY OF SCIENCES OF THE UNITED STATES OF AMERICA, VOLUME: 97, NÚMERO: 9, PÁGINAS: 4891-4896
AUTORES: Vieira, M ; Fantoni, A ; Fernandes, M ; Schwarz, R ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials in PHILOSOPHICAL MAGAZINE B-PHYSICS OF CONDENSED MATTER STATISTICAL MECHANICS ELECTRONIC OPTICAL AND MAGNETIC PROPERTIES, VOLUME: 80, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 755-764
AUTORES: Vieira, M ; Fantoni, A ; Fernandes, M ; Schwarz, R ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials in Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties, VOLUME: 80, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 755-764
AUTORES: Chalub, FACC ; Zubelli, JP;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Workshop on Nonlinearity, Integrability and all that - 20 Years after NEEDS 79 in PROCEEDINGS OF THE WORKSHOP ON NONLINEARITY, INTEGRABILITY AND ALL THAT: TWENTY YEARS AFTER NEEDS '79, PÁGINAS: 89-96
AUTORES: Pinheiro, C; Schafer, T; Rodrigues, CM; Barros, A ; Rocha, S; Delgadillo, I; Crespo, JG;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 7th International Symposium on Olfaction and Electronic Noses (ISOEN 2000) in ELECTRONIC NOSES AND OLFACTION 2000, PÁGINAS: 61-66
AUTORES: Jardim Goncalves, R ; Tavares, R; Steiger Garcao, A ; Grilo, A ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 3rd European Conference on Product and Process Modelling in the Building and Related Industries in PRODUCT AND PROCESS MODELLING IN BUILDING AND CONSTRUCTION, PÁGINAS: 239-245
AUTORES: Simoes, PC ; Eggers, R; Jaeger, PT;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: EUROPEAN JOURNAL OF LIPID SCIENCE AND TECHNOLOGY, VOLUME: 102, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 263-265
AUTORES: Ortigueira, MD ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: IEE PROCEEDINGS-VISION IMAGE AND SIGNAL PROCESSING, VOLUME: 147, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 62-70