Universidade de Aveiro (UA)
University of Aveiro
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 23100
925 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Rocha Santos, TAP ; Gomes, MTSR ; Duarte, AC ; Oliveira, JABP ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: TALANTA, VOLUME: 51, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 1149-1153
AUTORES: Martins, N ; Carvalho, MG; Afgan, N; Leontiev, AI;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: EXPERIMENTAL THERMAL AND FLUID SCIENCE, VOLUME: 22, NÚMERO: 3-4, PÁGINAS: 165-173
AUTORES: L. P. Castro ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Applicable Analysis, VOLUME: 74, NÚMERO: 3-4, PÁGINAS: 393-412
AUTORES: Alves, LN ; Aguiar, RL ; de Vasconcelos, E; Cura, JL ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: IEEE International Symposium on Circuits and Systems (ISCAS 2000) in ISCAS 2000: IEEE INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON CIRCUITS AND SYSTEMS - PROCEEDINGS, VOL V: EMERGING TECHNOLOGIES FOR THE 21ST CENTURY, VOLUME: 5, PÁGINAS: 429-432
AUTORES: Coutinho, JAP ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: ENERGY & FUELS, VOLUME: 14, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 625-631
AUTORES: Ventura, PJ; Costa, LC ; Carmo, MC; Roman, HE; Pavesi, L;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 1st International Conference on Porous Semiconductors - Science and Technology (PSST 98) in JOURNAL OF POROUS MATERIALS, VOLUME: 7, NÚMERO: 1-3, PÁGINAS: 107-110
AUTORES: Abreu, SN ; Pereira, E ; Vale, C ; Duarte, AC ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: MARINE POLLUTION BULLETIN, VOLUME: 40, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 293-297
AUTORES: Guilhermino, L ; Diamantino, T; Silva, MC ; Soares, AMVM ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: ECOTOXICOLOGY AND ENVIRONMENTAL SAFETY, VOLUME: 46, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 357-362
AUTORES: Abrantes, JCC ; Labrincha, JA ; Frade, JR ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: MATERIALS RESEARCH BULLETIN, VOLUME: 35, NÚMERO: 5, PÁGINAS: 727-740
AUTORES: Silvestre, AJD ; Pereira, CCL; Neto, CP ; Evtuguin, DV ; Cavaleiro, JAS ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF PULP AND PAPER SCIENCE, VOLUME: 26, NÚMERO: 12, PÁGINAS: 421-427
AUTORES: Alves, LN ; Cura, JL ; Aguiar, RL ; Santos, DM ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 7th IEEE International Conference on Electronics, Circuits and Systems in ICECS 2000: 7TH IEEE INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTRONICS, CIRCUITS & SYSTEMS, VOLS I AND II, VOLUME: 1, PÁGINAS: 49-52
AUTORES: Costa, L; Fillon, M; Miranda, AS ; Claro, JCP ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: STLE/ASME Tribology Conference in JOURNAL OF TRIBOLOGY-TRANSACTIONS OF THE ASME, VOLUME: 122, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 227-232
AUTORES: Carlos, LD ; Ferreira, RAS ; Bermudez, VD;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 6th International Symposium on Polymer Electrolytes (ISPE-6) in ELECTROCHIMICA ACTA, VOLUME: 45, NÚMERO: 8-9, PÁGINAS: 1555-1560
AUTORES: Silvestre, AJD ; Freire, C ; Neto, CP ; Mendonca, E; Pereira, L; Picado, A;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Pulp Bleaching Conference in 2000 INTERNATIONAL PULP BLEACHING CONFERENCE, POSTER PRESENTATION, PÁGINAS: 195-198
AUTORES: Gracio, JJ ; Lopes, AB ; Rauch, EF;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 6th International Conference on Sheet Metal (SheMet 98) in JOURNAL OF MATERIALS PROCESSING TECHNOLOGY, VOLUME: 103, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 160-164
AUTORES: Macedo, MF ; Duarte, P; Ferreira, JG ; Alves, M; Costa, V;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: HYDROBIOLOGIA, VOLUME: 441, NÚMERO: 1-3, PÁGINAS: 155-172
AUTORES: Santos, MA; Pacheco, M ; Magalhaes, I;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 10th International Symposium of MESAEP in FRESENIUS ENVIRONMENTAL BULLETIN, VOLUME: 9, NÚMERO: 9-10, PÁGINAS: 527-534
AUTORES: Amaral, VS ; Lourenco, AACS; Araujo, JP ; Pereira, AM; Sousa, JB ; Tavares, PB ; Vieira, JM ; Alves, E ; da Silva, MF; Soares, JC ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 44th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials in JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 87, NÚMERO: 9, PÁGINAS: 5570-5572
AUTORES: Amaral, VS ; Lourenco, AACS; Araujo, JP ; Tavares, PB ; Alves, E ; Sousa, JB ; Vieira, JM ; da Silva, MF; Soares, JC ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Symposium G Material Physics Issues and Applications of Magnetic Oxides at the E-MRS Spring Meeting in JOURNAL OF MAGNETISM AND MAGNETIC MATERIALS, VOLUME: 211, NÚMERO: 1-3, PÁGINAS: 1-8