Universidade de Aveiro (UA)
University of Aveiro
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 23102
925 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Goncalves, PP ; Meireles, SM; Neves, P; Vale, MGP;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: NEUROCHEMISTRY INTERNATIONAL, VOLUME: 37, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 387-396
AUTORES: Barata, C; Baird, DJ; Minarro, A; Soares, AMVM ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: ENVIRONMENTAL TOXICOLOGY AND CHEMISTRY, VOLUME: 19, NÚMERO: 9, PÁGINAS: 2314-2322
AUTORES: Bastos, CAC ; Fish, PJ; Steel, R; Vaz, F;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: ULTRASONICS, VOLUME: 37, NÚMERO: 9, PÁGINAS: 623-632
AUTORES: Lau, N ; Sklyarov, V;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: IFIP 10th International Conference on Very Large Scale Integration (VLSI 99) in VLSI: SYSTEMS ON A CHIP, VOLUME: 34, PÁGINAS: 137-148
AUTORES: Gomes, JR ; Oliveira, FJ; Silva, RF ; Osendi, MI; Miranzo, P;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: WEAR, VOLUME: 239, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 59-68
AUTORES: Alves, E ; da Silva, MF; Soares, JC ; Monteiro, T ; Soares, J; Santos, L;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 10th International Conference on Radioation Effects in Insulators (REI-10) in NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 166, PÁGINAS: 183-187
AUTORES: Furtado, FP; Evtuguin, DV ; Gomes, TM;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Pulp Bleaching Conference in 2000 INTERNATIONAL PULP BLEACHING CONFERENCE, POSTER PRESENTATION, PÁGINAS: 111-114
AUTORES: del Arco, M; Gutierrez, S; Martin, C; Rives, V; Rocha, J ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF SOLID STATE CHEMISTRY, VOLUME: 151, NÚMERO: 2, PÁGINAS: 272-280
AUTORES: Teixeira, ALJ ; Lima, MJN ; da Rocha, JRF ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 13th Annual Meeting of the IEEE Lasers-and-Electro-Optics-Society in LEOS 2000 - IEEE ANNUAL MEETING CONFERENCE PROCEEDINGS, VOLS. 1 & 2, VOLUME: 2, PÁGINAS: 484-485
AUTORES: Mano, JF ; Reis, RL ; Cunha, AM ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF APPLIED POLYMER SCIENCE, VOLUME: 78, NÚMERO: 13, PÁGINAS: 2345-2357
AUTORES: Mano, JF ; Reis, RL ; Cunha, AM ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Journal of Applied Polymer Science, VOLUME: 78, NÚMERO: 13, PÁGINAS: 2345-2357
AUTORES: Dias, RG ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF PHYSICS-CONDENSED MATTER, VOLUME: 12, NÚMERO: 42, PÁGINAS: 9053-9060
AUTORES: Lomba, CR; Valadas, RT; Duarte, AMD ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF COMMUNICATION SYSTEMS, VOLUME: 13, NÚMERO: 7-8, PÁGINAS: 537-549
AUTORES: Castela, ASL; Simoes, AM ; Ferreira, MGS ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: PROGRESS IN ORGANIC COATINGS, VOLUME: 38, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 1-7
AUTORES: Jurado, JR; Colomer, MT; Frade, JR ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF THE AMERICAN CERAMIC SOCIETY, VOLUME: 83, NÚMERO: 11, PÁGINAS: 2715-2720
AUTORES: Gharbage, B; Figueiredo, FM ; Baker, RT; Marques, FMB ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: ELECTROCHIMICA ACTA, VOLUME: 45, NÚMERO: 13, PÁGINAS: 2095-2099
AUTORES: Figueiredo, FM ; Marques, FMB ; Frade, JR ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: IONICS, VOLUME: 6, NÚMERO: 3-4, PÁGINAS: 260-266
AUTORES: Gharbage, B; Marques, FMB ; Frade, JR ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 12th International Conference on Solid State Ionics in SOLID STATE IONICS, VOLUME: 136, NÚMERO: 1-2, PÁGINAS: 933-937
AUTORES: Correia, JG ; Araujo, JP ; Marques, JG ; Ramos, AR ; Lourenco, AA; Amaral, V ; Galindo, V; Senateur, JP; Weiss, F; Wahl, U ; Melo, AA; Soares, JC ; Sousa, JB ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: HYPERFINE INTERACTIONS, VOLUME: 129, NÚMERO: 1-4, PÁGINAS: 461-473
AUTORES: Cerejeiras, P ; Kahler, U ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: MATHEMATICAL METHODS IN THE APPLIED SCIENCES, VOLUME: 23, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 81-101