Universidade de Aveiro (UA)
University of Aveiro
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
Only validated by team members publications are included.
Only the current year team is included in this action.>
The action is executed in the background, thus the results are NOT immediate.
This actions can be executed only once a month!
Only validated by current year team members publications are included.
The action is executed in the background, thus the results are NOT immediate.
This actions can be executed only once a day!
Publications Count: 23103
925 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Alves, C ; Pio, C ; Duarte, A ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: PHYSICS AND CHEMISTRY OF THE EARTH PART B-HYDROLOGY OCEANS AND ATMOSPHERE, VOLUME: 24, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 705-709
AUTORES: Rauch, EF; Lopes, AB ; Gracio, JJ ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: ARCHIVES OF METALLURGY, VOLUME: 44, NÚMERO: 2, PÁGINAS: 139-155
AUTORES: Mano, JF ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: 3rd Annual General Meeting of the Thermal Methods Group (TMG) in THERMOCHIMICA ACTA, VOLUME: 332, NÚMERO: 2, PÁGINAS: 161-170
AUTORES: Montemor, MF ; Simoes, AMP ; Ferreira, MGS ; Belo, MD;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: CORROSION SCIENCE, VOLUME: 41, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 17-34
AUTORES: Goodfellow, BJ ; Macedo, AL; Rodrigues, P ; Moura, I ; Wray, V; Moura, JJG ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: JOURNAL OF BIOLOGICAL INORGANIC CHEMISTRY, VOLUME: 4, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 421-430
AUTORES: Philippou, A; Rocha, J ; Anderson, MW;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: CATALYSIS LETTERS, VOLUME: 57, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 151-153
AUTORES: Coutinho, JAP ; Ruffier Meray, V;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: OIL & GAS SCIENCE AND TECHNOLOGY-REVUE D IFP ENERGIES NOUVELLES, VOLUME: 54, NÚMERO: 5, PÁGINAS: 641-648
AUTORES: Macedo, FJ ; Ferreira, JA; Van Hattum, FWJ ; Bernardo, CA ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Proceedings of the 1997 Advances in Materials and Processing Technologies, AMPT'97 in JOURNAL OF MATERIALS PROCESSING TECHNOLOGY, VOLUME: 93, PÁGINAS: 151-155
AUTORES: Esteves, VI ; Duarte, AC ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: MARINE CHEMISTRY, VOLUME: 63, NÚMERO: 3-4, PÁGINAS: 225-233
AUTORES: Seitz, R; Gaspar, C; Monteiro, T ; Pereira, E; Schoettker, B; Frey, T; As, DJ; Schikora, D; Lischka, K;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Symposium on Wide-Bandgap Semiconductors for High-Power, High-Frequency and High-Temperature Applications-1999 at the 1999 MRS Spring Meeting in WIDE-BANDGAP SEMICONDUCTORS FOR HIGH-POWER, HIGH-FREQUENCY AND HIGH-TEMPERATURE APPLICATIONS-1999, VOLUME: 572, PÁGINAS: 225-230
AUTORES: Neto, CP ; Belino, E; Evtuguin, D ; Silvestre, AJD ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: APPITA JOURNAL, VOLUME: 52, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 213-+
AUTORES: Yaremchenko, AA; Kharton, VV; Mather, GC; Naumovicha, EN; Marques, FMB ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: BOLETIN DE LA SOCIEDAD ESPANOLA DE CERAMICA Y VIDRIO, VOLUME: 38, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 635-638
AUTORES: Alves, R; Gameiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Proceedings of the 1999 VTC - Fall IEEE VTS 50th Vehicular Technology Conference 'Gateway to 21st Century Communications Village' in IEEE Vehicular Technology Conference, VOLUME: 5, PÁGINAS: 2934-2938
AUTORES: Rocha, TAP ; Horvath, H; Oliveira, JABP ; Duarte, AC ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: SCIENCE OF THE TOTAL ENVIRONMENT, VOLUME: 236, NÚMERO: 1-3, PÁGINAS: 231-236
AUTORES: Gomes, JR ; Osendi, MI; Miranzo, P; Oliveira, FJ; Silva, RF ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: International Conference on Erosion, Abrasion and Wear in WEAR, VOLUME: 233, PÁGINAS: 222-228
AUTORES: Gomes, JR ; Miranda, AS ; Silva, RF ; Vieira, JM ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: JOURNAL OF THE AMERICAN CERAMIC SOCIETY, VOLUME: 82, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 953-960
AUTORES: Fernandes, AJS; Fonseca, MJ; Costa, FM ; Silva, RF ; Nazare, MH;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: 9th European Conference on Diamond, Diamond-like Materials, Nitrides and Silicon Carbide (Diamond 1998) in DIAMOND AND RELATED MATERIALS, VOLUME: 8, NÚMERO: 2-5, PÁGINAS: 855-858
AUTORES: Costa, VAF ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF HEAT AND MASS TRANSFER, VOLUME: 42, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 27-33
AUTORES: Fonseca, JA ; Almeida, LM ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Proceedings of the 1999 7th IEEE International Conference on Emerging Technologies and Factory Automation (ETFA'99) in IEEE Symposium on Emerging Technologies and Factory Automation, ETFA, VOLUME: 2, PÁGINAS: 815-821
AUTORES: Almeida, L ; Pasadas, R; Fonseca, JA ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: CONTROL ENGINEERING PRACTICE, VOLUME: 7, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 101-108