111
TÍTULO: Role of ion bombardment on the properties of a-Si : H films  Full Text
AUTORES: Aguas, H ; Martins, R ; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 6th European Vacuum Conference in VACUUM, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: WOS
112
TÍTULO: Silicon films produced by PECVD under powder formation conditions
AUTORES: Martins, R ; Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I ; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 4th European Workshop on Dusty and Colloidal Plasmas in Materials Science Forum, VOLUME: 382
INDEXADO EM: Scopus
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113
TÍTULO: Thin film metal oxide semiconductors deposited on polymeric substrates
AUTORES: Fortunato, E ; Nunes, P; Marques, A; Costa, D; Aguas, H ; Ferreira, I ; Costa, MEV ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 2001 MRS Spring Meeting in Materials Research Society Symposium Proceedings, VOLUME: 685
INDEXADO EM: Scopus CrossRef
NO MEU: ORCID
114
TÍTULO: Thin film position sensitive detectors based on pin amorphous silicon carbide structures  Full Text
AUTORES: Cabrita, A; Figueiredo, J; Pereira, L ; Aguas, H ; Silva, V; Brida, D; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Spring Meeting of the European-Materials-Research-Society in APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 184, NÚMERO: 1-4
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
115
TÍTULO: Zinc oxide thin films deposited by rf magnetron sputtering on mylar substrates at room temperature
AUTORES: Fortunato, E ; Nunes, P; Marques, A; Costa, D; Aguas, H ; Ferreira, I ; Costa, MEV ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 2001 MRS Spring Meeting in Materials Research Society Symposium Proceedings, VOLUME: 685
INDEXADO EM: Scopus CrossRef
NO MEU: ORCID
116
TÍTULO: Correlation between surface/interface states and the performance of MIS structures
AUTORES: Aguas, HMB ; Fortunato, EMC ; Cabrita, AM; Silva, V; Tonello, PMN; Martins, RFP ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Amorphous and Heterogeneus Silicon Thin Films-2000 in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 609
INDEXADO EM: Scopus
NO MEU: ORCID
117
TÍTULO: Influence of the plasma regime on the structural, optical, electrical and morphological properties of a-Si : H thin films
AUTORES: Aguas, H ; Martins, R ; Nunes, Y ; Maneira, M; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Colloidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382
INDEXADO EM: Scopus WOS
118
TÍTULO: Large area flexible amorphous silicon position sensitive detectors
AUTORES: Fortunato, EMC ; Brida, D; Ferreira, IMM ; Aguas, HMB ; Nunes, P; Cabrita, A; Giuliani, F; Nunes, Y ; Maneira, MJP; Martins, RFP ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Amorphous and Heterogeneus Silicon Thin Films-2000 in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 609, NÚMERO: 7
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NO MEU: ORCID
119
TÍTULO: New nanostructured silicon films grown by PECVD technique under controlled powder formation conditions  Full Text
AUTORES: Martins, R ; Aguas, H ; Cabrita, A; Tonello, P; Silva, V; Ferreira, I ; Fortunato, E ; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: SOLAR ENERGY, VOLUME: 69, NÚMERO: 1-6
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
120
TÍTULO: Plasma diagnostics of a PECVD system using different RF electrode configurations  Full Text
AUTORES: Aguas, H ; Martins, R ; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Symposium D - Measurement Techniques for Technological Plasmas at the 1999 E-MRS Spring Meeting in VACUUM, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
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