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TÍTULO: EVIDENCE FOR SIF62-IONS IN ELECTROCHEMICALLY DEPOSITED SI-O-F FILMS AND PLASMA-ENHANCED CHEMICALLY VAPOR-DEPOSITED SI-O-H-F ALLOYS
AUTORES: PIMENTA, G; DIAS, AG;
PUBLICAÇÃO: 1989, FONTE: JOURNAL OF PHYSICS-CONDENSED MATTER, VOLUME: 1, NÚMERO: 26
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