Rodrigo Ferrao Paiva Martins
AuthID: R-000-FKV
201
TÃTULO: Solid State Electrochemical WO3 Transistors with High Current Modulation
AUTORES: Paul Grey; Luis Pereira; Sonia Pereira; Pedro Barquinha; Ines Cunha; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS, VOLUME: 2, NÚMERO: 9
AUTORES: Paul Grey; Luis Pereira; Sonia Pereira; Pedro Barquinha; Ines Cunha; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS, VOLUME: 2, NÚMERO: 9
202
TÃTULO: Solution-Processed Alkaline Lithium Oxide Dielectrics for Applications in n- and p-Type Thin-Film Transistors
AUTORES: Liu, A; Liu, GX; Zhu, CD; Zhu, HH; Fortunato, E; Martins, R; Shan, FK;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS, VOLUME: 2, NÚMERO: 9
AUTORES: Liu, A; Liu, GX; Zhu, CD; Zhu, HH; Fortunato, E; Martins, R; Shan, FK;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS, VOLUME: 2, NÚMERO: 9
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TÃTULO: High-mobility p-type NiOx thin-film transistors processed at low temperatures with Al2O3 high-k dielectric Full Text
AUTORES: Shan, FK; Liu, A; Zhu, HH; Kong, WJ; Liu, JQ; Shin, BC; Fortunato, E; Martins, R; Liu, GX;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, VOLUME: 4, NÚMERO: 40
AUTORES: Shan, FK; Liu, A; Zhu, HH; Kong, WJ; Liu, JQ; Shin, BC; Fortunato, E; Martins, R; Liu, GX;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, VOLUME: 4, NÚMERO: 40
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TÃTULO: The 2016 oxide electronic materials and oxide interfaces roadmap Full Text
AUTORES: Lorenz, M; Rao, MSR; Venkatesan, T; Fortunato, E; Barquinha, P; Branquinho, R; Salgueiro, D; Martins, R; Carlos, E; Liu, A; Shan, FK; Grundmann, M; Boschker, H; Mukherjee, J; Priyadarshini, M; DasGupta, N; Rogers, DJ; Teherani, FH; Sandana, EV; Bove, P; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, VOLUME: 49, NÚMERO: 43
AUTORES: Lorenz, M; Rao, MSR; Venkatesan, T; Fortunato, E; Barquinha, P; Branquinho, R; Salgueiro, D; Martins, R; Carlos, E; Liu, A; Shan, FK; Grundmann, M; Boschker, H; Mukherjee, J; Priyadarshini, M; DasGupta, N; Rogers, DJ; Teherani, FH; Sandana, EV; Bove, P; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, VOLUME: 49, NÚMERO: 43
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TÃTULO: A compact model and direct parameters extraction techniques For amorphous gallium-indium-zinc-oxide thin film transistors Full Text
AUTORES: Moldovan, O; Castro Carranza, A; Cerdeira, A; Estrada, M; Barquinha, P; Martins, R; Fortunato, E; Miljakovic, S; Iniguez, B;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: SOLID-STATE ELECTRONICS, VOLUME: 126
AUTORES: Moldovan, O; Castro Carranza, A; Cerdeira, A; Estrada, M; Barquinha, P; Martins, R; Fortunato, E; Miljakovic, S; Iniguez, B;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: SOLID-STATE ELECTRONICS, VOLUME: 126
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TÃTULO: Photocatalytic behavior of TiO2 films synthesized by microwave irradiation Full Text
AUTORES: Nunes, D; Pimentel, A; Pinto, JV; Calmeiro, TR; Nandy, S; Barquinha, P; Pereira, L; Carvalho, PA; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: CATALYSIS TODAY, VOLUME: 278
AUTORES: Nunes, D; Pimentel, A; Pinto, JV; Calmeiro, TR; Nandy, S; Barquinha, P; Pereira, L; Carvalho, PA; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: CATALYSIS TODAY, VOLUME: 278
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TÃTULO: Solution-processed high-k magnesium oxide dielectrics for low-voltage oxide thin-film transistors Full Text
AUTORES: Jiang, GX; Liu, A; Liu, GX; Zhu, CD; Meng, Y; Shin, B; Fortunato, E; Martins, R; Shan, FK;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 109, NÚMERO: 18
AUTORES: Jiang, GX; Liu, A; Liu, GX; Zhu, CD; Meng, Y; Shin, B; Fortunato, E; Martins, R; Shan, FK;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 109, NÚMERO: 18
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TÃTULO: Hybrid Microfluidic Platform for Multifactorial Analysis Based on Electrical Impedance, Refractometry, Optical Absorption and Fluorescence Full Text
AUTORES: Fabio M Pereira; Iwona Bernacka Wojcik; Rita Rodrigues R Ribeiro ; Maria Teresa Lobato; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins; Rui Igreja; Pedro A S Jorge ; Hugo Aguas; Abel Martin G Gonzalez Oliva;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: Micromachines, VOLUME: 7, NÚMERO: 10
AUTORES: Fabio M Pereira; Iwona Bernacka Wojcik; Rita Rodrigues R Ribeiro ; Maria Teresa Lobato; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins; Rui Igreja; Pedro A S Jorge ; Hugo Aguas; Abel Martin G Gonzalez Oliva;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: Micromachines, VOLUME: 7, NÚMERO: 10
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TÃTULO: Fatigue resistance of rotary endodontic files submitted to axial motion in multiplanar canals manufactured by 3D printing
AUTORES: Loios, G; Martins, RF; Ginjeira, A ; Dragoi, MV; Buican, G;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: 18th International Colloquium on Mechanical Fatigue of Metals (ICMFM) in XVIII INTERNATIONAL COLLOQUIUM ON MECHANICAL FATIGUE OF METALS (ICMFM XVIII), VOLUME: 160
AUTORES: Loios, G; Martins, RF; Ginjeira, A ; Dragoi, MV; Buican, G;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: 18th International Colloquium on Mechanical Fatigue of Metals (ICMFM) in XVIII INTERNATIONAL COLLOQUIUM ON MECHANICAL FATIGUE OF METALS (ICMFM XVIII), VOLUME: 160
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TÃTULO: UV-Mediated Photochemical Treatment for Low-Temperature Oxide-Based Thin-Film Transistors
AUTORES: Carlos, E; Branquinho, R; Kiazadeh, A; Barquinha, P; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES, VOLUME: 8, NÚMERO: 45
AUTORES: Carlos, E; Branquinho, R; Kiazadeh, A; Barquinha, P; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES, VOLUME: 8, NÚMERO: 45
