Rodrigo Ferrao Paiva Martins
AuthID: R-000-FKV
431
TÃTULO: Application of thin film technology to optical sensors Full Text
AUTORES: Fortunato, E; Lavareda, G; Vieira, M; Martins, R; Ferreira, L;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Vacuum, VOLUME: 45, NÚMERO: 10-11
AUTORES: Fortunato, E; Lavareda, G; Vieira, M; Martins, R; Ferreira, L;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Vacuum, VOLUME: 45, NÚMERO: 10-11
432
TÃTULO: Thin film position sensitive detector based on amorphous silicon p–i–n diode Full Text
AUTORES: Elvira Fortunato; Guilherme Lavareda; Manuela Vieira; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Rev. Sci. Instrum. - Review of Scientific Instruments, VOLUME: 65, NÚMERO: 12
AUTORES: Elvira Fortunato; Guilherme Lavareda; Manuela Vieira; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Rev. Sci. Instrum. - Review of Scientific Instruments, VOLUME: 65, NÚMERO: 12
433
TÃTULO: PERFORMANCES PRESENTED BY A POSITION-SENSITIVE DETECTOR BASED ON AMORPHOUS-SILICON TECHNOLOGY
AUTORES: FORTUNATO, E ; VIEIRA, M; CARVALHO, CN ; LAVAREDA, G; MARTINS, R; SOARES, F; FERREIRA, L;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: International Symposium on Physical Concepts and Materials for Novel Optoelectronic Device Application 2 in PHYSICAL CONCEPTS AND MATERIALS FOR NOVEL OPTOELECTRONIC DEVICE APPLICATIONS II: INTERNATIONAL SYMPOSIUM, VOLUME: 1985
AUTORES: FORTUNATO, E ; VIEIRA, M; CARVALHO, CN ; LAVAREDA, G; MARTINS, R; SOARES, F; FERREIRA, L;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: International Symposium on Physical Concepts and Materials for Novel Optoelectronic Device Application 2 in PHYSICAL CONCEPTS AND MATERIALS FOR NOVEL OPTOELECTRONIC DEVICE APPLICATIONS II: INTERNATIONAL SYMPOSIUM, VOLUME: 1985
INDEXADO EM: 
WOS
WOS NO MEU: 
ORCID | ResearcherID
ORCID | ResearcherID434
TÃTULO: Tailoring defects on amorphous silicon pin devices Full Text
AUTORES: Martins, R; Fantoni, A; Vieira, M;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 164-166
AUTORES: Martins, R; Fantoni, A; Vieira, M;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 164-166
435
TÃTULO: Material properties, project design rules and performances of single and dual-axis a-Si:H large area position sensitive detectors Full Text
AUTORES: Fortunato, E; Vieira, M; Lavareda, G; Ferreira, L; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 164-166
AUTORES: Fortunato, E; Vieira, M; Lavareda, G; Ferreira, L; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 164-166
436
TÃTULO: <title>Temperature and light-induced degradation effect on a-Si:H photovoltaic PIN device properties</title>
AUTORES: Manuela Vieira; Elvira Fortunato; Carlos N Carvalho; Guilherme Lavareda; Fernando Soares; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Physical Concepts and Materials for Novel Optoelectronic Device Applications II
AUTORES: Manuela Vieira; Elvira Fortunato; Carlos N Carvalho; Guilherme Lavareda; Fernando Soares; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Physical Concepts and Materials for Novel Optoelectronic Device Applications II
437
TÃTULO: <title>Performances presented by a position-sensitive detector based on amorphous silicon technology</title>
AUTORES: Elvira Fortunato; Manuela Vieira; Carlos N Carvalho; Guilherme Lavareda; Rodrigo Martins; Fernando Soares; Luis A A Ferreira;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Physical Concepts and Materials for Novel Optoelectronic Device Applications II
AUTORES: Elvira Fortunato; Manuela Vieira; Carlos N Carvalho; Guilherme Lavareda; Rodrigo Martins; Fernando Soares; Luis A A Ferreira;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Physical Concepts and Materials for Novel Optoelectronic Device Applications II
438
TÃTULO: Role of Photodegradation on the \x03C4;Product and Microstructure of the a-Si:H Pin Devices
AUTORES: Vieira, M; Fortunato, E; Lavareda, G; C.N Carvalho; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: MRS Proc. - MRS Proceedings, VOLUME: 297
AUTORES: Vieira, M; Fortunato, E; Lavareda, G; C.N Carvalho; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: MRS Proc. - MRS Proceedings, VOLUME: 297
439
TÃTULO: Large Area Position Sensitive Detector Based on Amorphous Silicon Technology
AUTORES: Fortunato, E; Vieira, M; Ferreira, L; C.N Carvalho; Lavareda, G; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: MRS Proc. - MRS Proceedings, VOLUME: 297
AUTORES: Fortunato, E; Vieira, M; Ferreira, L; C.N Carvalho; Lavareda, G; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: MRS Proc. - MRS Proceedings, VOLUME: 297
440
TÃTULO: A thin SiO layer as a remedy for the indium reduction at the In2O3/μc-Si:C:H interface Full Text
AUTORES: J.M.M de Nijs; Carvalho, C; Santos, M; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1991, FONTE: Applied Surface Science, VOLUME: 52, NÚMERO: 4
AUTORES: J.M.M de Nijs; Carvalho, C; Santos, M; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 1991, FONTE: Applied Surface Science, VOLUME: 52, NÚMERO: 4
