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TÍTULO: Optimization of deposition parameters for thin silicon films on flexible substrates in a hot-wire chemical vapor deposition reactor
AUTORES: Alpuim, P ; Ribeiro, M; Filonovich, S ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: 3rd International Materials Symposium/12th Meeting of the Sociedad-Portuguesa-da-Materials (Materials 2005/SPM) in ADVANCED MATERIALS FORUM III, PTS 1 AND 2, VOLUME: 514-516, NÚMERO: PART 1
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