Luis Antonio Ferreira Martins Dias Carlos
AuthID: R-000-9BR
371
TÃTULO: APPLICATION OF THIN-FILM TECHNOLOGY TO OPTICAL SENSORS Full Text
AUTORES: FORTUNATO, E ; LAVAREDA, G ; VIEIRA, M ; MARTINS, R ; FERREIRA, L;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: VACUUM, VOLUME: 45, NÚMERO: 10-11
AUTORES: FORTUNATO, E ; LAVAREDA, G ; VIEIRA, M ; MARTINS, R ; FERREIRA, L;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: VACUUM, VOLUME: 45, NÚMERO: 10-11
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372
TÃTULO: Emission spectra and local symmetry of the Eu 3 + ion in polymer electrolytes
AUTORES: Carlos, LD; Videira, ALL;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Phys. Rev. B - Physical Review B, VOLUME: 49, NÚMERO: 17
AUTORES: Carlos, LD; Videira, ALL;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Phys. Rev. B - Physical Review B, VOLUME: 49, NÚMERO: 17
373
TÃTULO: A mean radius for the first coordination shell in lanthanides Full Text
AUTORES: Carlos, LD; Videira, ALL;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: The Journal of Chemical Physics - J. Chem. Phys., VOLUME: 101, NÚMERO: 10
AUTORES: Carlos, LD; Videira, ALL;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: The Journal of Chemical Physics - J. Chem. Phys., VOLUME: 101, NÚMERO: 10
374
TÃTULO: MATERIAL PROPERTIES, PROJECT DESIGN RULES AND PERFORMANCES OF SINGLE AND DUAL-AXIS A-SI-H LARGE-AREA POSITION-SENSITIVE DETECTORS Full Text
AUTORES: FORTUNATO, E ; VIEIRA, M ; LAVAREDA, G ; FERREIRA, L; MARTINS, R ;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 166, NÚMERO: PART 2
AUTORES: FORTUNATO, E ; VIEIRA, M ; LAVAREDA, G ; FERREIRA, L; MARTINS, R ;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 166, NÚMERO: PART 2
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375
TÃTULO: LARGE-AREA POSITION-SENSITIVE DETECTOR BASED ON AMORPHOUS-SILICON TECHNOLOGY
AUTORES: FORTUNATO, E ; VIEIRA, M ; FERREIRA, L; CARVALHO, CN ; LAVAREDA, G ; MARTINS, R ;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Symposium on Amorphous Silicon Technology, at the 1993 MRS Spring Meeting of the Materials-Research-Society in AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY-1993, VOLUME: 297
AUTORES: FORTUNATO, E ; VIEIRA, M ; FERREIRA, L; CARVALHO, CN ; LAVAREDA, G ; MARTINS, R ;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Symposium on Amorphous Silicon Technology, at the 1993 MRS Spring Meeting of the Materials-Research-Society in AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY-1993, VOLUME: 297
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376
TÃTULO: ESTIMATION OF STANDARD ENTHALPIES OF FORMATION OF INORGANIC AND ORGANOMETALLIC COMPOUNDS .3. HOMOLEPTIC METAL-HALIDES Full Text
AUTORES: DIAS, AR; SIMOES, JAM; TEIXEIRA, C; AIROLDI, C; CHAGAS, AP;
PUBLICAÇÃO: 1991, FONTE: POLYHEDRON, VOLUME: 10, NÚMERO: 12
AUTORES: DIAS, AR; SIMOES, JAM; TEIXEIRA, C; AIROLDI, C; CHAGAS, AP;
PUBLICAÇÃO: 1991, FONTE: POLYHEDRON, VOLUME: 10, NÚMERO: 12
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