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Characterization of Silicon Carbide Thin Films Prepared by Vhf-Pecvd Technology
AuthID
P-000-9YR
10
Author(s)
Zhang, S
·
Raniero, L
·
Fortunato, E
·
Pereira, L
·
Martins, N
·
Canhola, P
·
Ferreira, I
·
Nedev, N
·
Aguas, H
·
Martins, R
Tipo de Documento
Article
Year published
2004
Publicado
in
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
ISSN: 0022-3093
Volume: 338, Número: 1 SPEC. ISS., Páginas: 530-533 (4)
Conference
20Th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors,
Date:
AUG 25-29, 2003,
Location:
Campos do Jordao, BRAZIL
Indexing
Wos
®
Scopus
®
Crossref
®
Google Scholar
®
Metadata
Fontes
Publication Identifiers
DOI
:
10.1016/j.jnoncrysol.2004.03.035
SCOPUS
: 2-s2.0-2942528965
Wos
: WOS:000222219000118
Source Identifiers
ISSN
: 0022-3093
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