Toggle navigation
Publicações
Investigadores
Instituições
0
Entrar
Autenticação Federada
(Clique na imagem)
Autenticação local
Recuperar Palavra-passe
Registar
Entrar
Publicações
Pesquisar
Estatísticas
Features of the Pulsed Treatment of Silicon Layers Implanted with Erbium Ions
AuthID
P-003-H65
7
Author(s)
Batalov, RI
·
Bayazitov, RM
·
Nurutdinov, RM
·
Kryzhkov, DI
·
Gaiduk, PI
·
Marques, CP
·
Alves, E
Tipo de Documento
Article
Year published
2009
Publicado
in
JOURNAL OF SURFACE INVESTIGATION-X-RAY SYNCHROTRON AND NEUTRON TECHNIQUES,
ISSN: 1027-4510
Volume: 3, Número: 4, Páginas: 604-607 (4)
Indexing
Wos
®
Scopus
®
Crossref
®
Google Scholar
®
Metadata
Fontes
Publication Identifiers
DOI
:
10.1134/s102745100904020x
SCOPUS
: 2-s2.0-70350605367
Wos
: WOS:000270739500020
Source Identifiers
ISSN
: 1027-4510
Export Publication Metadata
Exportar
×
Publication Export Settings
BibTex
EndNote
APA
Export Preview
Lista
Marked
Adicionar à lista
Marked
Info
At this moment we don't have any links to full text documens.
×
Selecione a Fonte
Esta publicação tem:
2 registos no
ISI
2 registos no
SCOPUS
2 registos no
DBLP
2 registos no
Unpaywall
2 registos no
Openlibrary
2 registos no
Handle
Por favor selecione o registo que deve ser utilizado pelo Authenticus.
×
Comparar Publicações
© 2024 CRACS & Inesc TEC - All Rights Reserved
Política de Privacidade
|
Terms of Service