Impact of Surface Hydroxyl Groups on Cuo Film Growth by Atomic Layer Deposition

AuthID
 P-013-M4D
3
Author(s)
Wang, J
·
Pinna, N
Tipo de Documento
Article
Year published
2023
Publicado
in Langmuir, ISSN: 0743-7463
Volume: 39, Número: 33, Páginas: 11603-11609
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ISSN: 0743-7463
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