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Calculation of Pore Size Distributions in Low-K Films
AuthID
P-007-GCQ
6
Author(s)
Ravikovitch, PI
·
Vishnyakov, A
·
Neimark, AV
·
Carrott, MR
·
Russo, PA
·
Carrott, PJ
6
Editor(es)
Seiler, DG; Diebold, AC; McDonald, R; Ayre, CR; Khosla, RP; Secula, EM
Tipo de Documento
Proceedings Paper
Year published
2005
Publicado
in
Characterization and Metrology for ULSI Technology 2005
in
AIP CONFERENCE PROCEEDINGS,
ISSN: 0094-243X
Volume: 788, Páginas: 517-521 (5)
Conference
5Th Conference on Characterization and Metrology for Ulsi Technology,
Date:
MAR 15-18, 2005,
Location:
Richardson, TX,
Patrocinadores:
Natl Inst Stand & Technol, SEMATECH, Amer Phys Soc, Natl Sci Fdn, Semiconductor Res Corp, Semiconductor Equipment & Mat Int, Univ Texas Dallas, Semiconductor Int
Indexing
Wos
®
Scopus
®
Crossref
®
Google Scholar
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Metadata
Fontes
Publication Identifiers
DOI
:
10.1063/1.2063013
SCOPUS
: 2-s2.0-33749658197
Wos
: WOS:000233588000081
Source Identifiers
ISSN
: 0094-243X
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