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Origin of Gas Impurities in Sputtering Plasmas During Thin Film Deposition
AuthID
P-00J-CH7
1
Author(s)
Andritschky, M
Tipo de Documento
Article
Year published
1991
Publicado
in
Vacuum,
ISSN: 0042-207X
Volume: 42, Número: 12, Páginas: 753-756
Indexing
Crossref
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Metadata
Fontes
Publication Identifiers
DOI
:
10.1016/0042-207x(91)90173-g
Source Identifiers
ISSN
: 0042-207X
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