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Properties of Sputtered Basi2 Thin Films Annealed in Vacuum Condition
AuthID
P-00R-XA2
5
Author(s)
Tian, YL
·
Montes, AR
·
Vanco, L
·
Isabella, O
·
Zeman, M
Tipo de Documento
Article
Year published
2020
Publicado
in
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
ISSN: 0021-4922
Volume: 59, Número: SF
Indexing
Wos
®
Scopus
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Metadata
Fontes
Publication Identifiers
DOI
:
10.7567/1347-4065/ab5b59
SCOPUS
: 2-s2.0-85083332493
Wos
: WOS:000520008100009
Source Identifiers
ISSN
: 0021-4922
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