Universidade Nova de Lisboa (UNL)
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 13023
451 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Rui M C Viegas; Joao G Crespo ; Isabel M Coelhoso ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: Conference of the European-Membrane-Society (EUROMEMBRANE 2006) in DESALINATION, VOLUME: 200, NÚMERO: 1-3, PÁGINAS: 595-597
AUTORES: Peres, J ; Freitas, F ; Reis, MAM; Feyo de Azevedo, SF ; Oliveira, R ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: Joint Conference Event of the 9th Symposium on Process Systems Engineering (PSE 2006)/16th European Symposium on Computer Aided Process Engineering (ESCAPE-16) in 16TH EUROPEAN SYMPOSIUM ON COMPUTER AIDED PROCESS ENGINEERING AND 9TH INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON PROCESS SYSTEMS ENGINEERING, VOLUME: 21, NÚMERO: C, PÁGINAS: 1717-1722
AUTORES: Ruivo, R; Paiva, A; Simoes, PC ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: CHEMICAL ENGINEERING AND PROCESSING, VOLUME: 45, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 224-231
AUTORES: Zhihua H Hu; Xianbo B Liao; Hongwei W Diao; Yi Cai; Shibin B Zhang; Elvira Fortunato ; Rodrigo Martins ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: 21st International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 352, NÚMERO: 9-20, PÁGINAS: 1900-1903
AUTORES: Ferreira, I ; Fortunato, E ; Vilarinho, P ; Viana, AS ; Ramos, AR ; Alves, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: 21st International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 352, NÚMERO: 9-20, PÁGINAS: 1361-1366
AUTORES: Brennan, L; Alves, PM ; Hewage, C; Malthouse, JPG; McBean, GJ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: NEUROCHEMISTRY INTERNATIONAL, VOLUME: 48, NÚMERO: 8, PÁGINAS: 739-745
AUTORES: Pereira, L ; Raniero, L; Barquinha, P ; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: 21st International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 352, NÚMERO: 9-20, PÁGINAS: 1737-1740
AUTORES: Jose Julio Alferes ; Gaston E Tagni;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: IEEE Services Computing Workshops in SCW 2006: IEEE Services Computing Workshops, Proceedings, PÁGINAS: 65-72
AUTORES: Abt, I; Adams, M; Agari, M; Albrecht, H; Aleksandrov, A; Amaral, V ; Amorim, A; Aplin, SJ; Aushev, V; Bagaturia, Y; Balagura, V; Bargiotti, M; Barsukova, O; Bastos, J; Batista, J; Bauer, C; Bauer, TS; Belkov, A; Belkov, A; Belotelov, I; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: PHYSICAL REVIEW D, VOLUME: 73, NÚMERO: 5
AUTORES: Silva, C; Castro, J; Tedesco, P; Araujo, J ; Moreira, A ; Mylopoulos, J;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: 2006 International Workshop on Software Engineering for Large-Scale Multi-Agent Systems, SELMAS '06, Co-located with the 28th International Conference on SoftwareEngineering, ICSE 2006 in Proceedings - International Conference on Software Engineering, PÁGINAS: 107-113
AUTORES: Martins, RMS ; Fernandes, FMB ; Silva, RJC ; Beckers, M; Schell, N;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: 3rd International Materials Symposium/12th Meeting of the Sociedad-Portuguesa-da-Materials (Materials 2005/SPM) in ADVANCED MATERIALS FORUM III, PTS 1 AND 2, VOLUME: 514-516, NÚMERO: PART 2, PÁGINAS: 1588-1592
AUTORES: Barrenho, F; Romo, T; Martins, T; Correia, N ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: International Conference on Advances in Computer Entertainment Technology 2006 in International Conference on Advances in Computer Entertainment Technology 2006
AUTORES: Lameiro, MH; Lopes, A; Martins, LO ; Alves, PM ; Melo, E ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF PHARMACEUTICS, VOLUME: 312, NÚMERO: 1-2, PÁGINAS: 119-130
AUTORES: Paula Urze ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: 7th Working Conference on Virtual Enterprises in NETWORK-CENTRIC COLLABORATION AND SUPPORTING FRAMEWORKS, VOLUME: 224, PÁGINAS: 199-210
AUTORES: Oller, JC; Munoz, A; Perez, JM; Blanco, F; Limao Vieira, P ; Garcia, G;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: CHEMICAL PHYSICS LETTERS, VOLUME: 421, NÚMERO: 4-6, PÁGINAS: 439-443
AUTORES: Carmo, H ; Brulport, M; Hermes, M; Oesch, F; Silva, R; Ferreira, LM; Branco, P; de Boer, D; Remiao, F ; Carvalho, F ; Schon, MR; Krebsfaenger, N; Doehmer, J; Bastos, ML ; Hengstler, JG;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: TOXICOLOGY LETTERS, VOLUME: 164
AUTORES: Helena Carmo ; Marc Brulport; Matthias Hermes; Franz Oesch; Renata Silva; Luisa M Ferreira ; Paula S Branco ; Douwe de Boer; Fernando Remiao ; Felix Carvalho ; Michael R Schoen; Niels Krebsfaenger; Johannes Doehmer; Maria de Lourdes Bastos ; Jan G Hengstler;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: PHARMACOGENETICS AND GENOMICS, VOLUME: 16, NÚMERO: 11, PÁGINAS: 789-799
AUTORES: Wang, JZ; Sallet, V; Amiri, G; Rommelluere, JF; Lusson, A; Rzepka, E; Lewis, JE; Galtier, P; Fortunato, E ; Martins, R ; Gorochov, O;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: 12th International Conference on II-VI Compounds in Physica Status Solidi C - Current Topics in Solid State Physics, Vol 3, No 4, VOLUME: 3, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 1010-1013
AUTORES: Jinzhong Z Wang; Vincent Sallet; Gaele Amiri; Jean Francois Rommelluere; Alain Lusson; John E Lewis; Pierre Galtier; Fortunato, E ; Martins, R ; Ouri Gorochov;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 515, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 1527-1531
AUTORES: Barquinha, P ; Pimentel, A ; Marques, A; Pereira, L ; Martins, R ; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: 21st International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 352, NÚMERO: 9-20, PÁGINAS: 1749-1752