Universidade Nova de Lisboa (UNL)
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 13116
451 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Syndikus, I; Petri, M; Macchiavelli, AO; Paschalis, S; Bertulani, CA; Aumann, T; Alvarez Pol, H; Atar, L; Beceiro Novo, S; Benlliure, J; Boillos, JM; Boretzky, K; Borge, MJG; Brown, BA; Caamano, M; Caesar, C; Casarejos, E; Catford, W; Cederkall, J; Chakraborty, S; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: PHYSICS LETTERS B, VOLUME: 809, PÁGINAS: 135748
AUTORES: Federico Cabitza; Ana L N Fred; Hugo Gamboa ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: HEALTHINF
AUTORES: Inacio, PL; Camacho, EF; Schell, N; Fernandes, FMB; Oliveira, JP; Santos, TG ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: 1st International Conference on Advanced Joining Processes (AJP) in JOURNAL OF MATERIALS PROCESSING TECHNOLOGY, VOLUME: 285
AUTORES: Amaral, V; Norberto, B; Goulao, M; Aldinucci, M; Benkner, S; Bracciali, A; Carreira, P; Celms, E; Correia, L; Grelck, C; Karatza, H; Kessler, C; Kilpatrick, P; Martiniano, H; Mavridis, I; Pllana, S; Respicio, A ; Simao, J; Veiga, L ; Visa, A;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: PARALLEL COMPUTING, VOLUME: 91, PÁGINAS: 102584
AUTORES: Ghaderi, P; Ferreira, D; Cavaco, E ; Lucio, V ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: JOURNAL OF FAILURE ANALYSIS AND PREVENTION, VOLUME: 20, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 1244-1257
AUTORES: Bundaleska, N; Dias, A; Bundaleski, N; Felizardo, E; Henriques, J; Tsyganov, D; Abrashev, M; Valcheva, E; Kissovski, J; Ferraria, AM; do Rego, AMB; Almeida, A; Zavasnik, J; Cvelbar, U; Teodoro, OMND ; Strunskus, T; Tatarova, E;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: SCIENTIFIC REPORTS, VOLUME: 10, NÚMERO: 1
AUTORES: Beleza Sousa, JB ; Manuel L Esquivel ; Raquel M Gaspar ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: JOURNAL OF STATISTICAL THEORY AND PRACTICE, VOLUME: 14, NÚMERO: 2
AUTORES: Santos, G; Paulino, H ; Vardasca, T;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: 35th Annual ACM Symposium on Applied Computing (SAC) in PROCEEDINGS OF THE 35TH ANNUAL ACM SYMPOSIUM ON APPLIED COMPUTING (SAC'20), PÁGINAS: 242-249
AUTORES: Marques, AC; Lidon, FC; Coelho, ARF; Pessoa, CC; Luis, IC; Scotti Campos, P; Simoes, M; Almeida, AS; Paulo Legoinha ; Pessoa, MF; Galhano, C; Guerra, MAM ; Leitao, RG; Ramalho, JC; Semedo, JMN; Bagulho, A; Moreira, J; Rodrigues, AP; Marques, P; Silva, C; ...Mais
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: PLANTS-BASEL, VOLUME: 9, NÚMERO: 12, PÁGINAS: 1-12
AUTORES: Pydi Ganga Bahubalindruni; Bhawna Tiwari; Maria Pereira; Ana Santa; Jorge Martins; Ana Rovisco; Vitor Tavares ; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato; Pedro Barquinha;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: IEEE JOURNAL OF THE ELECTRON DEVICES SOCIETY, VOLUME: 8, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 157-162
AUTORES: Mortari, C; Pais, AN; Esteves, L; da Camara, AG; Carvalho, ML; Manso, M ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: JOURNAL OF RAMAN SPECTROSCOPY, VOLUME: 52, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 59-70
AUTORES: Dias Rasteiro, DML; Chibeles-Martins, Nelson ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: Calculus for Engineering Students: Fundamentals, Real Problems, and Computers, PÁGINAS: 197-219
AUTORES: Soares, C; Valdeira, F ; Gomes, J;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: IEEE SIGNAL PROCESSING LETTERS, VOLUME: 27, PÁGINAS: 670-674
AUTORES: Dimitrova, I; Vítor H. Fernandes ; Koppitz, J; Quinteiro, TM ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: BULLETIN OF THE MALAYSIAN MATHEMATICAL SCIENCES SOCIETY, VOLUME: 43, NÚMERO: 2, PÁGINAS: 1623-1645
AUTORES: Inácio, M; Isufi, B; Lapi, M; Ramos, AP ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: ACI Structural Journal, VOLUME: 117, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 297-310
AUTORES: Miguel A. Reis ; Pessanha, S ; Chaves, PC; Carvalho, ML;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 477, PÁGINAS: 73-76
AUTORES: Arthur Baidoo, E; Ameixa, J; Ziegler, P; da Silva, FF ; Oncak, M; Denifl, S;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: ANGEWANDTE CHEMIE-INTERNATIONAL EDITION, VOLUME: 59, NÚMERO: 39, PÁGINAS: 17177-17181
AUTORES: Arthur Baidoo, E; Ameixa, J; Ziegler, P; Ferreira da Silva, F ; Ončák, M; Denifl, S;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: Angewandte Chemie, VOLUME: 132, NÚMERO: 39, PÁGINAS: 17330-17334
AUTORES: Santos, P; Roth, P; Fernandes, JM; Fetter, V; Valentina Vassilenko ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: 11th Advanced Doctoral Conference on Computing, Electrical and Industrial Systems, DoCEIS 2020 in IFIP Advances in Information and Communication Technology, VOLUME: 577, PÁGINAS: 403-410
AUTORES: Bebiano, N; Fernandes, Rosario ; Furtado, S ;
PUBLICAÇÃO: 2020, FONTE: COMPUTATIONAL & APPLIED MATHEMATICS, VOLUME: 39, NÚMERO: 2