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Ana Maria Heleno Branquinho de Amaral
AuthID:
R-000-15S
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Document Source:
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Article (45)
Proceedings Paper (5)
Article in Press (1)
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1986
1985
Order:
Ano Dsc
Ano Asc
Cit. WOS Dsc
IF WOS Dsc
Cit. Scopus Dsc
IF Scopus Dsc
Título Asc
Título Dsc
Results:
10
20
30
40
50
Publicações Confirmadas: 51
21
TÃTULO:
InOx semiconductor films deposited on glass substrates for transparent electronics
Full Text
AUTORES:
Nunes N de Carvalho
;
Lavareda, G
;
Amaral, A
;
Conde, O
;
Ramos, AR
;
PUBLICAÇÃO:
2006
,
FONTE:
1st Conference on Advances in Optical Materials (AIOM)
in
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
VOLUME:
352,
NÚMERO:
23-25
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
22
TÃTULO:
Transparent thin film transistors based on indium oxide semiconductor
Full Text
AUTORES:
Lavareda, G
;
Nunes N de Carvalho
;
Fortunato, E
;
Ramos, AR
;
Alves, E
;
Conde, O
;
Amaral, A
;
PUBLICAÇÃO:
2006
,
FONTE:
1st Conference on Advances in Optical Materials (AIOM)
in
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
VOLUME:
352,
NÚMERO:
23-25
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
23
TÃTULO:
ITO films with enhanced electrical properties deposited on unheated ZnO-coated polymer substrates
Full Text
AUTORES:
de Carvalho, CN
;
Lavareda, G
;
Fortunato, E
; Alves, H; Goncalves, A; Varela, J;
Nascimento, R
;
Amaral, A
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
Symposium on Functional Oxides for Advanced Semiconductor Technologies
in
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY,
VOLUME:
118,
NÚMERO:
1-3
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
24
TÃTULO:
ITO properties on anisotropic flexible transparent cellulosic substrates under different stress conditions
Full Text
AUTORES:
Amaral, A
;
de Carvalho, CN
;
Brogueira, P
;
Lavareda, G
;
Melo, LV
;
Godinho, MH
;
PUBLICAÇÃO:
2005
,
FONTE:
Symposium on Functional Oxides for Advanced Semiconductor Technologies
in
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY,
VOLUME:
118,
NÚMERO:
1-3
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
25
TÃTULO:
a-Si : H TFT enhancement by plasma processing of the insulating/semiconductor interface
Full Text
AUTORES:
Lavareda, G
;
de Carvalho, CN
;
Amaral, A
;
Fortunato, E
;
Vilarinho, P
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Symposium on Functional Metal Oxides - Semiconductor Structures held at the E-MRS 2003 Meeting
in
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY,
VOLUME:
109,
NÚMERO:
1-3
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
2
NO MEU:
ORCID
26
TÃTULO:
Improvement of field-effect mobilities in TFTs: Surface plasma treatments vs stack dielectric structures
AUTORES:
Lavareda, G
;
de Carvalho, CN
;
Amaral, A
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
2nd International Materials Symposium
in
ADVANCED MATERIALS FORUM II,
VOLUME:
455-456
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
27
TÃTULO:
ITO films deposited by rf-PERTE on unheated polymer substrates-properties dependence on In-Sn alloy composition
Full Text
AUTORES:
de Carvalho, CN
;
Lavareda, G
;
Fortunato, E
; Vilarinho, R;
Amaral, A
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Symposium on Functional Metal Oxides - Semiconductor Structures held at the E-MRS 2003 Meeting
in
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY,
VOLUME:
109,
NÚMERO:
1-3
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
28
TÃTULO:
Optimisation of a home-made RIE system - Effect of SF6 plasma on the properties of partially etched a-Si : H films
AUTORES:
Pereira, P
;
Lavareda, G
;
do Rego, AMB
;
Amaral, A
;
de Carvalho, CN
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
2nd International Materials Symposium
in
ADVANCED MATERIALS FORUM II,
VOLUME:
455-456
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
29
TÃTULO:
Positron annihilation studies in amorphous silicon nitride
AUTORES:
Gordo, PM
;
Naia, MD
; Gill, CL; de Lima, AP;
Lavareda, G
;
de Carvalho, CN
;
Amaral, A
; Kajcsos, Z;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
13th International Conference on Positron Annihilation (ICPA-13)
in
POSITRON ANNIHILATION, ICPA-13, PROCEEDINGS,
VOLUME:
445-6
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
30
TÃTULO:
Properties of a-Si : H TFTs using silicon carbonitride as dielectric
Full Text
AUTORES:
Lavareda, G
;
de Carvalho, CN
;
Fortunato, E
;
Amaral, A
;
Ramos, AR
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors
in
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
VOLUME:
338,
NÚMERO:
1 SPEC. ISS.
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
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