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Rodrigo Ferrao Paiva Martins
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Cit. Scopus Dsc
IF Scopus Dsc
Título Asc
Título Dsc
Results:
10
20
30
40
50
Publicações Confirmadas: 493
301
TÃTULO:
Engineering of a-Si : H device stability by suitable design of interfaces
Full Text
AUTORES:
Martins, R
;
Ferreira, I
;
Aguas, H
; Silva, V;
Fortunato, E
; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS,
VOLUME:
73,
NÚMERO:
1
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
302
TÃTULO:
Growth model of gas species produced by the hot-wire and hot-wire plasma-assisted techniques
AUTORES:
Martins, R
;
Ferreira, I
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
1st International Materials Symposium (Materials 2001)
in
ADVANCED MATERIALS FORUM I,
VOLUME:
230-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
303
TÃTULO:
High quality a-Si : H films for MIS device applications
Full Text
AUTORES:
Aguas, H
;
Fortunato, E
; Silva, V;
Pereira, L
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
E-MRS 2001 Spring Meeting
in
THIN SOLID FILMS,
VOLUME:
403
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
304
TÃTULO:
Highly conductive/transparent ZnO : Al thin films deposited at room temperature by rf magnetron sputtering
AUTORES:
Fortunato, E
; Nunes, P; Marques, A; Costa, D;
Aguas, H
;
Ferreira, I
;
Costa, MEV
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
1st International Materials Symposium (Materials 2001)
in
ADVANCED MATERIALS FORUM I,
VOLUME:
230-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
1
NO MEU:
ORCID
305
TÃTULO:
Hot-wire plasma assisted chemical vapor deposition: A deposition technique to obtain silicon thin films
Full Text
AUTORES:
Ferreira, I
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
Vilarinho, P
;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
VOLUME:
91,
NÚMERO:
3
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
1
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
306
TÃTULO:
Influence of a DC grid on silane r.f. plasma properties
Full Text
AUTORES:
Aguas, H
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
4th Iberian Vacuum Meeting (IVM-4)
in
VACUUM,
VOLUME:
64,
NÚMERO:
3-4
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
307
TÃTULO:
Influence of hydrogen gas dilution on the properties of silicon-doped thin films prepared by the hot-wire plasma-assisted technique
AUTORES:
Ferreira, I
;
Vilarinho, P
;
Fernandes, F
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
1st International Materials Symposium (Materials 2001)
in
ADVANCED MATERIALS FORUM I,
VOLUME:
230-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
308
TÃTULO:
Influence of the intrinsic layer characteristics on a-Si : H p-i-n solar cell performance analysed by means of a computer simulation
Full Text
AUTORES:
Fantoni, A
; Viera, M;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS,
VOLUME:
73,
NÚMERO:
2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
309
TÃTULO:
Influence of the plasma regime on the structural, optical and transport properties of a-Si : H thin films
AUTORES:
Aguas, H
;
Martins, R
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
1st International Materials Symposium (Materials 2001)
in
ADVANCED MATERIALS FORUM I,
VOLUME:
230-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
310
TÃTULO:
Influence of the strain on the electrical resistance of zinc oxide doped thin film deposited on polymer substrates
Full Text
AUTORES:
Fortunato, E
;
Nunes, P
;
Marques, A
; Costa, D;
Aguas, H
;
Ferreira, I
;
da Costa, MEV
;
Godinho, MH
;
Almeida, PL
;
Borges, JP
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2002
,
FONTE:
ADVANCED ENGINEERING MATERIALS,
VOLUME:
4,
NÚMERO:
8
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
16
NO MEU:
ORCID
|
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