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TÍTULO: Sputtering preparation of silicon nitride thin films for gate dielectric applications
AUTORES: Pereira, L ; Aguas, H ; Igreja, R ; Martins, RMS ; Nedev, N; Raniero, L; Fortunato, E ; Martins, R ;
PUBLICAÇÃO: 2004, FONTE: 2nd International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM II, VOLUME: 455-456
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