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Elvira Maria Correia Fortunato
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1984
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1982
Order:
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Ano Asc
Cit. WOS Dsc
IF WOS Dsc
Cit. Scopus Dsc
IF Scopus Dsc
Título Asc
Título Dsc
Results:
10
20
30
40
50
Publicações Confirmadas: 508
71
TÃTULO:
Characterization of SnO2:F thin films deposited by an economic spray pyrolysis technique
Full Text
AUTORES:
Nafiseh Memarian
;
Seyed Mohammad Rozati
;
Elangovan Elamurugu
;
Elvira Fortunato
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
Spring Meeting of the European-Materials-Research-Society (E-MRS)/Symposium F on Advances in Transparent Electronics-From Materials to Devices
in
PHYSICA STATUS SOLIDI C: CURRENT TOPICS IN SOLID STATE PHYSICS, VOL 7, NO 9,
VOLUME:
7,
NÚMERO:
9
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
72
TÃTULO:
Floating gate memory paper transistor
AUTORES:
Martins, R
;
Pereira, L
;
Barquinha, P
;
Correia, N
;
Goncalves, G
;
Ferreira, I
;
Dias, C
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
Conference on Oxide-based Materials and Devices
in
OXIDE-BASED MATERIALS AND DEVICES,
VOLUME:
7603
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
73
TÃTULO:
Gelatin in electrochromic devices
Full Text
AUTORES:
Silva, MM
;
Barbosa, PC
;
Rodrigues, LC
;
Goncalves, A
;
Costa, C
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
2nd International Conference on Functional Materials and Devices
in
OPTICAL MATERIALS,
VOLUME:
32,
NÚMERO:
6
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
43
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
74
TÃTULO:
High Mobility a-IGO Films Produced at Room Temperature and Their Application in TFTs
AUTORES:
Goncalves, G;
Barquinha, P
;
Pereira, L
; Franco, N;
Alves, E
;
Martins, R
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
ELECTROCHEMICAL AND SOLID STATE LETTERS,
VOLUME:
13,
NÚMERO:
1
INDEXADO EM:
WOS
NO MEU:
ResearcherID
75
TÃTULO:
Influence of Deposition Pressure on N-doped ZnO Films by RF Magnetron Sputtering
AUTORES:
Jinzhong Z Wang
;
Elangovan Elamurugu
;
Nuno Franco
;
Eduardo Alves
;
Ana M B Botelho do Rego
;
Goncalo Goncalves
;
Rodrigo Martins
;
Elvira Fortunato
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
2nd International Conference on Advanced Nano Materials
in
JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY,
VOLUME:
10,
NÚMERO:
4
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
76
TÃTULO:
Influence of oxygen partial pressure on properties of N-doped ZnO films deposited by magnetron sputtering
Full Text
AUTORES:
Wang, JZ; Elangovan, E;
Franco, N
; Alvese, A;
Rego, A
;
Martins, R
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
TRANSACTIONS OF NONFERROUS METALS SOCIETY OF CHINA,
VOLUME:
20,
NÚMERO:
12
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
77
TÃTULO:
Inkjet printed and "doctor blade" TiO2 photodetectors for DNA biosensors
Full Text
AUTORES:
Iwona Bernacka Wojcik; Rohan Senadeera; Pawel Jerzy Wojcik; Leonardo Bione Silva; Goncalo Doria;
Pedro Baptista
;
Hugo Aguas
;
Elvira Fortunato
;
Rodrigo Martins
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
BIOSENSORS & BIOELECTRONICS,
VOLUME:
25,
NÚMERO:
5
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
78
TÃTULO:
Insight on the SU-8 resist as passivation layer for transparent Ga2O3-In2O3-ZnO thin-film transistors
Full Text
AUTORES:
Antonis Olziersky
;
Pedro Barquinha
; Anna Vila;
Luis Pereira
;
Goncalo Goncalves
;
Elvira Fortunato
;
Rodrigo Martins
;
Juan R Morante
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
VOLUME:
108,
NÚMERO:
6
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
79
TÃTULO:
Investigations on high visible to near infrared transparent and high mobility Mo doped In2O3 thin films prepared by spray pyrolysis technique
Full Text
AUTORES:
Parthiban, S
; Elangovan, E; Ramamurthi, K;
Martins, R
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS,
VOLUME:
94,
NÚMERO:
3
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
80
TÃTULO:
Low-temperature processed Schottky-gated field-effect transistors based on amorphous gallium-indium-zinc-oxide thin films
Full Text
AUTORES:
Lorenz, M; Lajn, A; Frenzel, H;
Wenckstern, HV
; Grundmann, M;
Barquinha, P
;
Martins, R
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2010
,
FONTE:
APPLIED PHYSICS LETTERS,
VOLUME:
97,
NÚMERO:
24
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
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