Virginia Chu
AuthID: R-000-HJ2
161
TÃTULO: Amorphous silicon-carbon alloys and amorphous carbon from direct methane and ethylene activation by ECR
AUTORES: Conde, JP ; Chu, V; Giorgis, F; Pirri, CF; Arekat, S;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: Proceedings of the 1997 MRS Spring Symposium in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 467
AUTORES: Conde, JP ; Chu, V; Giorgis, F; Pirri, CF; Arekat, S;
PUBLICAÇÃO: 1997, FONTE: Proceedings of the 1997 MRS Spring Symposium in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 467
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TÃTULO: Optoelectronic properties of high-gap amorphous silicon-carbon alloys
AUTORES: Chu, V; Conde, JP ; Brogueira, P ; Micaelo, P; Jarego, JP; da Silva, MF; Soares, JC ;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: Proceedings of the 1995 MRS Spring Meeting in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 377
AUTORES: Chu, V; Conde, JP ; Brogueira, P ; Micaelo, P; Jarego, JP; da Silva, MF; Soares, JC ;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: Proceedings of the 1995 MRS Spring Meeting in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 377
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TÃTULO: Amorphous-to-microcrystalline silicon transition in hot-wire chemical vapor deposition
AUTORES: Brogueira, P ; Chu, V; Conde, JP ;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: Proceedings of the 1995 MRS Spring Meeting in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 377
AUTORES: Brogueira, P ; Chu, V; Conde, JP ;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: Proceedings of the 1995 MRS Spring Meeting in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 377
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ORCID164
TÃTULO: Low filament temperature deposition of a-Si:H by hot-wire chemical vapor deposition Full Text
AUTORES: Brogueira, P; Conde, JP; Arekat, S; Chu, V;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 78, NÚMERO: 6
AUTORES: Brogueira, P; Conde, JP; Arekat, S; Chu, V;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 78, NÚMERO: 6
165
TÃTULO: Transport and photoluminescence of hydrogenated amorphous silicon–carbon alloys Full Text
AUTORES: Chu, V; Conde, JP; Jarego, J; Brogueira, P; Rodriguez, J; Barradas, N; Soares, JC;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 78, NÚMERO: 5
AUTORES: Chu, V; Conde, JP; Jarego, J; Brogueira, P; Rodriguez, J; Barradas, N; Soares, JC;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 78, NÚMERO: 5
166
TÃTULO: HIGH-GROWTH RATE A-SIH DEPOSITED BY HOT-WIRE CVD
AUTORES: BROGUEIRA, P; CHU, V; CONDE, JP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Symposium on Amorphous Silicon Technology, at the 1994 MRS Spring Meeting in AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY-1994, VOLUME: 336
AUTORES: BROGUEIRA, P; CHU, V; CONDE, JP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Symposium on Amorphous Silicon Technology, at the 1994 MRS Spring Meeting in AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY-1994, VOLUME: 336
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TÃTULO: PROPERTIES OF AMORPHOUS SILICON/AMORPHOUS SILICON-GERMANIUM MULTILAYERS Full Text
AUTORES: CONDE, JP ; CHU, V; SHEN, DS; WAGNER, S;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 75, NÚMERO: 3
AUTORES: CONDE, JP ; CHU, V; SHEN, DS; WAGNER, S;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 75, NÚMERO: 3
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ORCID170
TÃTULO: ANNEALING KINETICS OF A-SI-H DEPOSITED BY CONCENTRIC-ELECTRODE RF GLOW-DISCHARGE AT ROOM-TEMPERATURE Full Text
AUTORES: CONDE, JP ; CHAN, KK; BLUM, JM; ARIENZO, M; MONTEIRO, PA; FERREIRA, JA; CHU, V; WYRSH, N;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 73, NÚMERO: 4
AUTORES: CONDE, JP ; CHAN, KK; BLUM, JM; ARIENZO, M; MONTEIRO, PA; FERREIRA, JA; CHU, V; WYRSH, N;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 73, NÚMERO: 4
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