G. Schlichthorl
AuthID: R-00K-4V7
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TÃTULO: In situ characterization of the p-Si/NH4F interface during dissolution in the current oscillations regime
AUTORES: Cattarin, S; Chazalviel, JN; Da Fonseca, C ; Ozanam, F; Peter, LM; Schlichthorl, G; Stumper, J;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Journal of the Electrochemical Society, VOLUME: 145, NÚMERO: 2
AUTORES: Cattarin, S; Chazalviel, JN; Da Fonseca, C ; Ozanam, F; Peter, LM; Schlichthorl, G; Stumper, J;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: Journal of the Electrochemical Society, VOLUME: 145, NÚMERO: 2
