261
TÍTULO: STRUCTURAL AND MAGNETIC-PROPERTIES OF UFE(X)M(12-X) (M=AL, MO AND SI) INTERMETALLIC COMPOUNDS  Full Text
AUTORES: GONCALVES, AP ; Grégoire Bonfait ; ALMEIDA, M ; ESTRELA, P; GODINHO, M ; SPIRLET, JC;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: International Conference on Magnetism - ICM 94 (13th IUPAP Triennial Conference on Magnetism) in JOURNAL OF MAGNETISM AND MAGNETIC MATERIALS, VOLUME: 140
INDEXADO EM: WOS CrossRef
262
TÍTULO: Structural and magnetic properties of UFexM12 - x (M = Al, Mo and Si) intermetallic compounds  Full Text
AUTORES: Goncalves, AP ; Grégoire Bonfait ; Almeida, M ; Estrela, P; Godinho, M ; Spirlet, JC;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: Journal of Magnetism and Magnetic Materials, VOLUME: 140-144, NÚMERO: PART 2
INDEXADO EM: Scopus
263
TÍTULO: Low filament temperature deposition of a-Si:H by hot-wire chemical vapor deposition  Full Text
AUTORES: Brogueira, P; Conde, JP; Arekat, S; Chu, V;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 78, NÚMERO: 6
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
264
TÍTULO: Transport and photoluminescence of hydrogenated amorphous silicon–carbon alloys  Full Text
AUTORES: Chu, V; Conde, JP; Jarego, J; Brogueira, P; Rodriguez, J; Barradas, N; Soares, JC;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 78, NÚMERO: 5
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
265
TÍTULO: HIGH-GROWTH RATE A-SIH DEPOSITED BY HOT-WIRE CVD
AUTORES: BROGUEIRA, P; CHU, V; CONDE, JP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: Symposium on Amorphous Silicon Technology, at the 1994 MRS Spring Meeting in AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY-1994, VOLUME: 336
INDEXADO EM: Scopus WOS
266
TÍTULO: Properties of amorphous silicon/amorphous silicon-germanium multilayers  Full Text
AUTORES: Conde, JP; Chu, V; Shen, DS; Wagner, S;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 75, NÚMERO: 3
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
267
TÍTULO: Carrier lifetime in amorphous semiconductors  Full Text
AUTORES: Shen, DS; Conde, JP; Chu, V; Wagner, S;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 75, NÚMERO: 11
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
268
TÍTULO: Annealing kinetics of a-Si:H deposited by concentric-electrode rf glow discharge at room temperature  Full Text
AUTORES: Conde, JP; Chan, KK; Blum, JM; Arienzo, M; Monteiro, PA; Ferreira, JA; Chu, V; Wyrsh, N;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 73, NÚMERO: 4
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
269
TÍTULO: Response time measurements in microcrystalline silicon
AUTORES: Schwarz, R; Wang, F; Grebner, S; Fischer, T; Koynov, S; Chu, V; Brogueria, P; Conde, J;
PUBLICAÇÃO: 1993, FONTE: Journal of Non-Crystalline Solids, VOLUME: 164-166
INDEXADO EM: CrossRef: 6
NO MEU: ORCID
270
TÍTULO: Deposition of amorphous silicon using a tubular reactor with concentric-electrode confinement  Full Text
AUTORES: Conde, JP; Chan, KK; Blum, JM; Arienzo, M; Cuomo, JJ;
PUBLICAÇÃO: 1992, FONTE: J. Appl. Phys. - Journal of Applied Physics, VOLUME: 71, NÚMERO: 8
INDEXADO EM: CrossRef
NO MEU: ORCID
Página 27 de 29. Total de resultados: 283.