131
TÍTULO: Ion implantation of microcrystalline silicon for low process temperature top gate thin film transistors  Full Text
AUTORES: Chu, V ; Silva, H; Redondo, LM ; Jesus, C; Silva, MF; Soares, JC; Conde, JP ;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 337, NÚMERO: 1-2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
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TÍTULO: Magnetization density distribution in
AUTORES: Paixão, JA ; Pereira, LCJ; Estrela, P; Godinho, M; Almeida, M; Paolasini, L; Bonnet, M; Rebizant, J; Spirlet, JC;
PUBLICAÇÃO: 1999, FONTE: Journal of Physics: Condensed Matter - J. Phys.: Condens. Matter, VOLUME: 11, NÚMERO: 9
INDEXADO EM: CrossRef: 2
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TÍTULO: The behaviour of ion-implanted tungsten species during anodic oxidation of aluminium
AUTORES: Fernandes, JCS ; Ferreira, MGS ; Soares, JC; Jesus, CM; Rangel, CM; Skeldon, P; Thompson, GE; Zhou, X; Habazaki, H; Shimizu, K;
PUBLICAÇÃO: 1998, FONTE: JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, VOLUME: 31, NÚMERO: 17
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 2
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