Toggle navigation
Publicações
Investigadores
Instituições
0
Entrar
Autenticação Federada
(Clique na imagem)
Autenticação local
Recuperar Palavra-passe
Registar
Entrar
Publicações
Pesquisar
Estatísticas
Cvd And Characterization Of Al-Cu Metallization Thin-Films
AuthID
P-014-YXD
6
Author(s)
HOULDING, VH
·
MAXWELL, H
·
CROCHIERE, SM
·
FARRINGTON, DL
·
RAI, RS
·
TARTAGLIA, JM
4
Editor(es)
KATZ,A;MURARKA,SP;NISSIM,YI;HARPER,JME
Tipo de Documento
Proceedings Paper
Year published
1992
Publicado
in
ADVANCED METALLIZATION AND PROCESSING FOR SEMICONDUCTOR DEVICES AND CIRCUITS - II,
ISSN: 0272-9172
Volume: 260, Páginas: 119-124 (6)
Indexing
Wos
®
Crossref
®
6
Google Scholar
®
Metadata
Fontes
Publication Identifiers
DOI
:
10.1557/proc-260-119
Wos
: WOS:A1992BX05U00013
Source Identifiers
ISSN
: 0272-9172
Export Publication Metadata
Exportar
×
Publication Export Settings
BibTex
EndNote
APA
Export Preview
Lista
Marked
Adicionar à lista
Marked
Info
At this moment we don't have any links to full text documens.
×
Selecione a Fonte
Esta publicação tem:
2 registos no
ISI
2 registos no
SCOPUS
2 registos no
DBLP
2 registos no
Unpaywall
2 registos no
Openlibrary
2 registos no
Handle
Por favor selecione o registo que deve ser utilizado pelo Authenticus.
×
Comparar Publicações
© 2024 CRACS & Inesc TEC - All Rights Reserved
Política de Privacidade
|
Terms of Service