Toggle navigation
Publicações
Investigadores
Instituições
0
Entrar
Autenticação Federada
(Clique na imagem)
Autenticação local
Recuperar Palavra-passe
Registar
Entrar
Publicações
Pesquisar
Estatísticas
Deposition of Silicon Nitride Thin Films by Hot-Wire Cvd at 100 °C and 250 °C
AuthID
P-00H-EGJ
6
Author(s)
Alpuim, P
·
Gonçalves, L
·
Marins, E
·
Viseu, T
·
Ferdov, S
·
Bourée, J
Tipo de Documento
Article
Year published
2009
Publicado
in
Thin Solid Films,
ISSN: 0040-6090
Volume: 517, Número: 12, Páginas: 3503-3506
Indexing
Crossref
®
Google Scholar
®
Metadata
Fontes
Publication Identifiers
DOI
:
10.1016/j.tsf.2009.01.077
Source Identifiers
ISSN
: 0040-6090
Export Publication Metadata
Exportar
×
Publication Export Settings
BibTex
EndNote
APA
Export Preview
Lista
Marked
Adicionar à lista
Marked
Info
At this moment we don't have any links to full text documens.
×
Selecione a Fonte
Esta publicação tem:
2 registos no
ISI
2 registos no
SCOPUS
2 registos no
DBLP
2 registos no
Unpaywall
2 registos no
Openlibrary
2 registos no
Handle
Por favor selecione o registo que deve ser utilizado pelo Authenticus.
×
Comparar Publicações
© 2024 CRACS & Inesc TEC - All Rights Reserved
Política de Privacidade
|
Terms of Service