Universidade de Aveiro (UA)
University of Aveiro
Uma Instituição (Grupo) no Authenticus é uma organização que engloba um conjunto de Investigadores (equipa da Instituição ou do Grupo). O conjunto de Investigadores depende da estrutura organizacional da instituição em cada ano e pode ser definido no perfil da Instituição, na secção “Investigadores”. Com base na equipa definida, o Authenticus produz listas de publicações, estatísticas e relatórios institucionais.
As publicações listadas no perfil da Instituição no Authenticus dependem de dois parâmetros:
- Investigadores associados à equipa da Instituição em cada ano.
- Origem das Publicações.
As publicações associadas à Instituição podem ter três origens:
- Publicações validadas pelos membros da equipa - Inclui todas as publicações validadas pelos membros da equipa; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Todas as Publicadas pelos membros da equipa - Inclui todas as anteriores mais aquelas em que um dos autores foi identificado com um membro da equipa, ainda que não tenha sido validada; é necessário que a equipa da Instituição esteja definida.
- Com Base na Afiliação - inclui todas as publicações que têm a Instituição ou o Grupo mencionado na afiliação; não é necessário que a equipa da Instituição esteja definida mas, por outro lado, não é garantido que todas as publicações da Instituição sejam listadas.
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Publications Count: 23100
925 Team MembersFilters -> Year: 2024
AUTORES: Ferreira, C; Teixeira, L ; Santiago, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 3rd International Conference on Enterprise Information Systems, ICEIS 2001 in ICEIS 2001 - Proceedings of the 3rd International Conference on Enterprise Information Systems, VOLUME: 2, PÁGINAS: 967-973
AUTORES: Palavra, A; Fernandes, AJS; Serra, C; Costa, FM ; Rocha, LA ; Silva, RF ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 11th European Conference on Diamond, Diamond-like Materials, Carbon Nanotubes, Nitrides and Silicon Carbide (Diamond 2000) in DIAMOND AND RELATED MATERIALS, VOLUME: 10, NÚMERO: 3-7, PÁGINAS: 775-780
AUTORES: Felix, V ; Costa, J ; Delgado, R ; Drew, MGB; Duarte, MT ; Resende, C;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: JOURNAL OF THE CHEMICAL SOCIETY-DALTON TRANSACTIONS, NÚMERO: 9, PÁGINAS: 1462-1471
AUTORES: Walfort, B; Lameyer, L; Weiss, W; Herbst Irmer, R; Bertermann, R; Rocha, J ; Stalke, D;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: CHEMISTRY-A EUROPEAN JOURNAL, VOLUME: 7, NÚMERO: 7, PÁGINAS: 1417-1423
AUTORES: Freitas, DSAP; Veloso, JFCA ; Dos Santos, JMF ; Conde, CAN ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 2000 IEEE Nuclear Science Symposium Conference Record in IEEE Nuclear Science Symposium and Medical Imaging Conference, VOLUME: 1, PÁGINAS: 7/8-7/11
AUTORES: Vacas, J; Lahreche, H; Monteiro, T ; Gaspar, C; Pereira, E; Brylinski, C; di Forte Poisson, MA;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: International Conference on Silicon Carbide and Related Materials in SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS - 1999 PTS, 1 & 2, VOLUME: 338-3, PÁGINAS: 1651-1654
AUTORES: Ali, N; Fan, QH; Gracio, J ; Pereira, E; Ahmed, W;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 27th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 377, PÁGINAS: 193-197
AUTORES: Pinto, DCGA ; Silva, AMS ; Cavaleiro, JAS ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: NEW JOURNAL OF CHEMISTRY, VOLUME: 24, NÚMERO: 2, PÁGINAS: 85-92
AUTORES: Rocha Santos, TAP ; Gomes, MTSR ; Duarte, AC ; Oliveira, JABP ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF ENVIRONMENTAL MONITORING, VOLUME: 2, NÚMERO: 3, PÁGINAS: 277-279
AUTORES: Madureira, L ; Melo, FQ ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: ENGINEERING COMPUTATIONS, VOLUME: 17, NÚMERO: 8, PÁGINAS: 970-980
AUTORES: Valter Silva; Santos, Frederico ; Valeri Skliarov;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Electrónica e telecomunicações : revista do Departamento de Electrónica e Telecomunicações da Universidade de Aveiro, VOLUME: 2, NÚMERO: 7
AUTORES: Coutinho, JAP ; Xavier, AMRB ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF CHEMICAL TECHNOLOGY AND BIOTECHNOLOGY, VOLUME: 75, NÚMERO: 4, PÁGINAS: 315-319
AUTORES: Santos, JPO; Ferreira, JJP ; Mendonca, JM ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF COMPUTER INTEGRATED MANUFACTURING, VOLUME: 13, NÚMERO: 1, PÁGINAS: 1-10
AUTORES: Borrego, C ; Lemos, S; Carvalho, AC; Coutinho, M;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th Workshop on Harmonization within Atmospheric Dispersion Modelling for Regulatory Purposes in INTERNATIONAL JOURNAL OF ENVIRONMENT AND POLLUTION, VOLUME: 14, NÚMERO: 1-6, PÁGINAS: 607-615
AUTORES: Santos, VM ; Castro, JP; Ribeiro, MI ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF ROBOTICS RESEARCH, VOLUME: 19, NÚMERO: 12, PÁGINAS: 1218-1235
AUTORES: Costa, J ; Delgado, R ; Drew, MGB; Felix, V ; Saint Maurice, A;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF THE CHEMICAL SOCIETY-DALTON TRANSACTIONS, NÚMERO: 12, PÁGINAS: 1907-1916
AUTORES: Aviles, T ; Dinis, A; Drew, MGB; Felix, V ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: MONATSHEFTE FUR CHEMIE, VOLUME: 131, NÚMERO: 12, PÁGINAS: 1305-1310
AUTORES: Pedro, JC ; Carvalho, NB ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: IEEE MTT-S International Microwave Symposium (IMS2000) in 2000 IEEE MTT-S INTERNATIONAL MICROWAVE SYMPOSIUM DIGEST, VOLS 1-3, VOLUME: 3, PÁGINAS: 1851-1854
AUTORES: Davesac, RR; Pinto, LT; da Silva, FA ; Ferreira, LM ; Rodrigues, AE ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: CHEMICAL ENGINEERING JOURNAL, VOLUME: 76, NÚMERO: 2, PÁGINAS: 115-125
AUTORES: Veloso, JFCA ; dos Santos, JMF ; Conde, CAN ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, VOLUME: 71, NÚMERO: 6, PÁGINAS: 2371-2376