1
TÍTULO: Characterization of TiAlSiN/TiAlSiON/SiO2 optical stack designed by modelling calculations for solar selective applications  Full Text
AUTORES: Rebouta, L ; Capela, P; Andritschky, M ; Matilainen, A; Santilli, P; Pischow, K; Alves, E ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS, VOLUME: 105
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2
TÍTULO: Optical characterization of TiAlN/TiAlON/SiO2 absorber for solar selective applications  Full Text
AUTORES: Rebouta, L ; Pitaes, A; Andritschky, M ; Capela, P; Cerqueira, MF; Matilainen, A; Pischow, K;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: Symposium K on Protective Coatings and Thin Films held at the European-Materials-Research-Society Spring Meeting (E-MRS) in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 211
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3
TÍTULO: Multilayered decorative a-C:H/CrC coating on stainless steel  Full Text
AUTORES: Andritschky, M ; Atfeh, M; Pischow, K;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 203, NÚMERO: 8
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4
TÍTULO: Mass production of thick copper vacuum metalization on plastic parts  Full Text
AUTORES: Martin Andritschky ; Kaj Pischow;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: VACUUM, VOLUME: 82, NÚMERO: 11
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5
TÍTULO: Performance of chromium nitride and titanium nitride coatings during plastic injection moulding  Full Text
AUTORES: Cunha, L ; Andritschky, M ; Pischow, K; Wang, Z; Zarychta, A; Miranda, AS ; Cunha, AM ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 153, NÚMERO: 2-3
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6
TÍTULO: Study of ZrO2/Al2O3 multilayers  Full Text
AUTORES: Gao, PT; Meng, LJ ; dos Santos, MP ; Teixeira, V ; Andritschky, M ;
PUBLICAÇÃO: 2002, FONTE: 4th Iberian Vacuum Meeting (IVM-4) in VACUUM, VOLUME: 64, NÚMERO: 3-4
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7
TÍTULO: Influence of sputtering pressure on the structure and properties of ZrO2 films prepared by rf reactive sputtering  Full Text
AUTORES: Gao, PT; Meng, LJ ; dos Santos, MP ; Teixeira, V ; Andritschky, M ;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 173, NÚMERO: 1-2
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9
TÍTULO: Failure of physical vapor deposition/plasma-sprayed thermal barrier coatings during thermal cycling  Full Text
AUTORES: Teixeira, V ; Andritschky, M ; Gruhn, H; Mallener, W; Buchkremer, HP; Stover, D;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: JOURNAL OF THERMAL SPRAY TECHNOLOGY, VOLUME: 9, NÚMERO: 2
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10
TÍTULO: Influence of sputtering power and the substrate-target distance on the properties of ZrO2 films prepared by RF reactive sputtering  Full Text
AUTORES: Gao, PT; Meng, LJ ; dos Santos, MP ; Teixeira, V ; Andritschky, M ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 27th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 377
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