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Elvira Maria Correia Fortunato
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40
50
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421
TÃTULO:
Study of the effect of different plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor configurations on the properties of hydrogenated amorphous silicon thin films
AUTORES:
Aguas, H
;
Silva, V
;
Ferreira, I
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials
in
Philosophical Magazine B: Physics of Condensed Matter; Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties,
VOLUME:
80,
NÚMERO:
4
INDEXADO EM:
Scopus
NO MEU:
ORCID
422
TÃTULO:
Study of the effect of different plasma-enhanced chemical vapour deposition reactor configurations on the properties of hydrogenated amorphous silicon thin films
AUTORES:
Aguas, H
; Silva, V;
Ferreira, I
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
International Workshop on Semiconducting and Superconducting Materials
in
PHILOSOPHICAL MAGAZINE B-PHYSICS OF CONDENSED MATTER STATISTICAL MECHANICS ELECTRONIC OPTICAL AND MAGNETIC PROPERTIES,
VOLUME:
80,
NÚMERO:
4
INDEXADO EM:
WOS
423
TÃTULO:
The effects of La on the dielectric properties of lead iron tungstate Pb(Fe2/3W1/3)O-3 relaxer ceramics
Full Text
AUTORES:
Zhou, LQ
;
Vilarinho, PM
;
Mantas, PQ
;
Baptista, JL
;
Fortunato, E
;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
JOURNAL OF THE EUROPEAN CERAMIC SOCIETY,
VOLUME:
20,
NÚMERO:
8
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
28
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
424
TÃTULO:
Towards the improvement of the stability of a-Si : H pin devices
Full Text
AUTORES:
Martins, R
;
Aguas, H
;
Ferreira, I
;
Fortunato, E
; Guimaraes, L;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
SOLAR ENERGY,
VOLUME:
69,
NÚMERO:
1-6
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
425
TÃTULO:
Two step process for the growth of a thin layer of silicon dioxide for tunnelling effect applications
AUTORES:
Aguas, H
; Cabrita, A; Tonello, P; Nunes, P;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2000
,
FONTE:
Symposium on Recent Developments in Oxide and Metal Epitaxy-Theory and Experiment
in
RECENT DEVELOPMENTS IN OXIDE AND METAL EPITAXY-THEORY AND EXPERIMENT,
VOLUME:
619
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
426
TÃTULO:
Amorphous silicon thin films applied to photochemical sensors
Full Text
AUTORES:
Fortunato, E
; Malik, A;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
1999
,
FONTE:
2nd European Conference on Hard Coatings (ETCHC-2)/3rd Iberian Vacuum Meeting (3rd RIVA)
in
VACUUM,
VOLUME:
52,
NÚMERO:
1-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
427
TÃTULO:
Characteristics of a linear array of a-Si : H thin film position sensitive detector
Full Text
AUTORES:
Fortunato, E
; Soares, F; Teodoro, P; Guimaraes, N;
Mendes, M
;
Aguas, H
;
Silva, V
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
1999
,
FONTE:
THIN SOLID FILMS,
VOLUME:
337,
NÚMERO:
1-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
428
TÃTULO:
Influence of the doping and annealing atmosphere on zinc oxide thin films deposited by spray pyrolysis
Full Text
AUTORES:
Nunes, P
; Malik, A; Fernandes, B;
Fortunato, E
;
Vilarinho, P
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
1999
,
FONTE:
2nd European Conference on Hard Coatings (ETCHC-2)/3rd Iberian Vacuum Meeting (3rd RIVA)
in
VACUUM,
VOLUME:
52,
NÚMERO:
1-2
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
58
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
429
TÃTULO:
Influence of the H2 dilution and filament temperature on the properties of P doped silicon carbide thin films produced by hot-wire technique
AUTORES:
Ferreira, I
;
Aguas, H
; Mendes, L;
Fernandes, F
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
1999
,
FONTE:
Proceedings of the 1998 MRS Spring Meeting
in
Materials Research Society Symposium - Proceedings,
VOLUME:
507
INDEXADO EM:
Scopus
NO MEU:
ORCID
430
TÃTULO:
New metallurgical systems for electronic soldering applications
Full Text
AUTORES:
Goncalves, C
;
Ferreira, J
;
Fortunato, E
;
Ferreira, I
;
Martins, R
; Marvao, AP;
Martins, JI
;
Harder, T
;
Oppelt, R
;
PUBLICAÇÃO:
1999
,
FONTE:
Symposium H - Materials Aspects in Microsystem Technologies
in
SENSORS AND ACTUATORS A-PHYSICAL,
VOLUME:
74,
NÚMERO:
1-3
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
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