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Hugo Manuel Brito Águas
AuthID:
R-000-61B
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Todos os Tipos de Documentos
Article (100)
Proceedings Paper (30)
Year Start - End:
1998
1999
2000
2001
2002
2003
2004
2005
2006
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2007
2006
2005
2004
2003
2002
2001
2000
1999
1998
Order:
Ano Dsc
Ano Asc
Cit. WOS Dsc
IF WOS Dsc
Cit. Scopus Dsc
IF Scopus Dsc
Título Asc
Título Dsc
Results:
10
20
30
40
50
Publicações Confirmadas: 130
61
TÃTULO:
Influence of the deposition conditions on the properties of titanium oxide produced by r.f. magnetron sputtering
Full Text
AUTORES:
Barquinha, P
;
Pereira, L
;
Aguas, H
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Symposium on New Materials in Future Silicon Technology Held at the E-MAR 2004 Spring Meeting
in
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING,
VOLUME:
7,
NÚMERO:
4-6
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
62
TÃTULO:
MIS photodiodes of polyrnorphous silicon deposited at higher growth rates by 27.12 MHz PECVD discharge
AUTORES:
Aguas, H
;
Pereira, L
;
Raniero, L
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
2nd International Materials Symposium
in
ADVANCED MATERIALS FORUM II,
VOLUME:
455-456
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
63
TÃTULO:
New developments in gallium doped zinc oxide deposited on polymeric substrates by RF magnetron sputtering
Full Text
AUTORES:
Fortunato, E
;
Goncalves, A
;
Marques, A
;
Viana, A
;
Aguas, H
;
Pereira, L
;
Ferreira, I
;
Vilarinho, P
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Symposium on Protective Coatings and Thin Films held at the E-MRS 20th Spring Meeting
in
SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY,
VOLUME:
180
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
51
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
64
TÃTULO:
Performances of hafnium oxide produced by radio frequency sputtering for gate dielectric application
Full Text
AUTORES:
Pereira, L
;
Marques, A
;
Aguas, H
; Nedev, N; Georgiev, S;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Symposium on Functional Metal Oxides - Semiconductor Structures held at the E-MRS 2003 Meeting
in
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY,
VOLUME:
109,
NÚMERO:
1-3
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
65
TÃTULO:
Polycrystalline silicon obtained by gold metal induced crystallization
Full Text
AUTORES:
Pereira, L
;
Aguas, H
;
Martins, RM
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors
in
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
VOLUME:
338,
NÚMERO:
1 SPEC. ISS.
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
66
TÃTULO:
Polycrystalline silicon obtained by metal induced crystallization using different metals
Full Text
AUTORES:
Pereira, L
;
Aguas, H
;
Martins, RMS
;
Vilarinho, P
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Symposium on Thin Film and Nano-Structured Materials for Photovoltaics
in
THIN SOLID FILMS,
VOLUME:
451
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
:
28
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
67
TÃTULO:
Properties of a-Si : H intrinsic films produced by HWPA-CVD technique
Full Text
AUTORES:
Ferreira, I
;
Aguas, H
;
Pereira, L
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
Symposium on Thin Film and Nano-Structured Materials for Photovoltaics
in
THIN SOLID FILMS,
VOLUME:
451
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
68
TÃTULO:
Role of substrate on the growth process of polycrystalline silicon thin films by low-pressure chemical vapour deposition
AUTORES:
Pereira, L
;
Aguas, H
; Raniero, L;
Martins, RMS
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
2nd International Materials Symposium
in
ADVANCED MATERIALS FORUM II,
VOLUME:
455-456
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
CrossRef
NO MEU:
ORCID
69
TÃTULO:
Role of the rf frequency on the structure and composition of polymorphous silicon films
Full Text
AUTORES:
Aguas, H
; Raniero, L;
Pereira, L
;
Viana, AS
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
20th International Conference on Amorphous and Microcrystalline Semiconductors
in
JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS,
VOLUME:
338,
NÚMERO:
1 SPEC. ISS.
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
ResearcherID
70
TÃTULO:
Silicon etching in CF(4)/O(2) and SF(6) atmospheres
AUTORES:
Silva, A
;
Raniero, L
; Ferreira, E;
Aguas, H
;
Pereira, L
;
Fortunato, E
;
Martins, R
;
PUBLICAÇÃO:
2004
,
FONTE:
2nd International Materials Symposium
in
ADVANCED MATERIALS FORUM II,
VOLUME:
455-456
INDEXADO EM:
Scopus
WOS
NO MEU:
ORCID
|
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