Ana Cristina Gomes Silva


AuthID: R-000-0Q2

Publicações Confirmadas: 27



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TÍTULO: Growth of aluminum oxide on silicon carbide with an atomically sharp interface
AUTORES: Silva, AG ; Pedersen, K; Li, ZS; Hvam, J; Dhiman, R; Morgen, P;
PUBLICAÇÃO: 2017, FONTE: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, VOLUME: 35, NÚMERO: 1
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 1
NO MEU: ORCID
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TÍTULO: Photoelectron spectroscopy as an in situ contact-less method for studies of MOS properties of ultrathin oxides on Si  Full Text
AUTORES: Ana G Silva ; Kjeld Pedersen; Zheshen S S Li; Per Morgen;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 353
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 3
NO MEU: ORCID
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TÍTULO: Influence of the patch field on work function measurements based on the secondary electron emission  Full Text
AUTORES: Bundaleski, N ; Trigueiro, J; Silva, AG ; Moutinho, AMC ; Teodoro, OMND ;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 113, NÚMERO: 18
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 13
NO MEU: ORCID
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TÍTULO: Water on TiO2 studied by work function change: adsorption in cycles  Full Text
AUTORES: Nenad Bundaleski ; Ana G Silva ; Bobbie Jean Shaw; Orlando Teodoro ; Augusto Moutinho ;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: 15th International Conference on Thin Films (ICTF) in 15TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON THIN FILMS (ICTF-15), VOLUME: 417, NÚMERO: 1
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef
NO MEU: ORCID
18
TÍTULO: Dynamics of water adsorption on TiO2 monitored by work function spectroscopy  Full Text
AUTORES: Ana G Silva ; Nenad Bundaleski ; Augusto M C Moutinho ; Orlando M N D Teodoro ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 258, NÚMERO: 6
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 9
NO MEU: ORCID
19
TÍTULO: Novel Approach to the Semi-Empirical Universal Theory for Secondary Electron Yield  Full Text
AUTORES: Bundaleski, N ; Shaw, BJ; Silva, AG ; Moutinho, AMC ; Teodoro, OMND ;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: SCANNING, VOLUME: 33, NÚMERO: 4
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 2
NO MEU: ORCID
20
TÍTULO: Oxidation of the surface of a thin amorphous silicon film  Full Text
AUTORES: Ana G Silva ; Kjeld Pedersen; Zheshen S S Li; Per Morgen;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: 18th International Vacuum Congress (IVC) in THIN SOLID FILMS, VOLUME: 520, NÚMERO: 2
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef: 2
NO MEU: ORCID
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