S. Nitsche


AuthID: R-006-PG6

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TÍTULO: Epitaxial growth of β-FeSi2 on silicon (111): a real-time RHEED analysis  Full Text
AUTORES: Chevrier, J; Le Thanh, V; Nitsche, S; Derrien, J;
PUBLICAÇÃO: 1992, FONTE: Applied Surface Science, VOLUME: 56-58, NÚMERO: PART 1
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