Manish Chhowalla
AuthID: R-006-S85
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TÃTULO: Silicon Effect on the Hardness of r.f. Sputtered B-C:Si Amorphous Films Full Text
AUTORES: Cristina Louro ; Joao C Oliveira ; Manish Chhowalla; Albano Cavaleiro ;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: 11th International Conference on Plasma Surface Engineering in PLASMA PROCESSES AND POLYMERS, VOLUME: 6, NÚMERO: SUPPL. 1
AUTORES: Cristina Louro ; Joao C Oliveira ; Manish Chhowalla; Albano Cavaleiro ;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: 11th International Conference on Plasma Surface Engineering in PLASMA PROCESSES AND POLYMERS, VOLUME: 6, NÚMERO: SUPPL. 1