Akepati Sivasankar Reddy
AuthID: R-000-V90
1
TÃTULO: Nanocrystalline Au:Ag:SnO2 films prepared by pulsed magnetron sputtering Full Text
AUTORES: Sivasankar S Reddy; Figueiredo, NM; Cavaleiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: JOURNAL OF PHYSICS AND CHEMISTRY OF SOLIDS, VOLUME: 74, NÚMERO: 6
AUTORES: Sivasankar S Reddy; Figueiredo, NM; Cavaleiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: JOURNAL OF PHYSICS AND CHEMISTRY OF SOLIDS, VOLUME: 74, NÚMERO: 6
2
TÃTULO: Pulsed direct current magnetron sputtered nanocrystalline tin oxide films Full Text
AUTORES: Sivasankar Reddy, AS; Figueiredo, NM; Cavaleiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 258, NÚMERO: 22
AUTORES: Sivasankar Reddy, AS; Figueiredo, NM; Cavaleiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 258, NÚMERO: 22
3
TÃTULO: Effect of annealing temperature on the properties of pulsed magnetron sputtered nanocrystalline Ag:SnO2 films Full Text
AUTORES: Sivasankar S Reddy; Figueiredo, NM; Cho, HC; Lee, KS; Cavaleiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, VOLUME: 133, NÚMERO: 2-3
AUTORES: Sivasankar S Reddy; Figueiredo, NM; Cho, HC; Lee, KS; Cavaleiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, VOLUME: 133, NÚMERO: 2-3
4
TÃTULO: Nanocrystalline SnO2 and Au:SnO2 thin films prepared by direct current magnetron reactive sputtering Full Text
AUTORES: Sivasankar S Reddy; Figueiredo, NM; Cavaleiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: VACUUM, VOLUME: 86, NÚMERO: 9
AUTORES: Sivasankar S Reddy; Figueiredo, NM; Cavaleiro, A ;
PUBLICAÇÃO: 2012, FONTE: VACUUM, VOLUME: 86, NÚMERO: 9
5
TÃTULO: Effect of substrate bias voltage on the physical properties of dc reactive magnetron sputtered NiO thin films Full Text
AUTORES: Mallikarjuna M Reddy; Sivasankar S Reddy; Sreedhara S Reddy;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, VOLUME: 125, NÚMERO: 3
AUTORES: Mallikarjuna M Reddy; Sivasankar S Reddy; Sreedhara S Reddy;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, VOLUME: 125, NÚMERO: 3
6
TÃTULO: Electrical and optical properties of In2O3:Mo thin films prepared at various Mo-doping levels Full Text
AUTORES: Kaleemulla, S; Madhusudhana M Rao; Girish G Joshi; Sivasankar S Reddy; Uthanna, S; Sreedhara S Reddy;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, VOLUME: 504, NÚMERO: 2
AUTORES: Kaleemulla, S; Madhusudhana M Rao; Girish G Joshi; Sivasankar S Reddy; Uthanna, S; Sreedhara S Reddy;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, VOLUME: 504, NÚMERO: 2
7
TÃTULO: Physical properties of In2O3 thin films prepared at various oxygen partial pressures Full Text
AUTORES: Kaleemulla, S; Sivasankar S Reddy; Uthanna, S; Sreedhara S Reddy;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, VOLUME: 479, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Kaleemulla, S; Sivasankar S Reddy; Uthanna, S; Sreedhara S Reddy;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, VOLUME: 479, NÚMERO: 1-2
