Eduardo Jorge da Costa Alves
AuthID: R-000-4EK
241
TÃTULO: Composition and structure variation for magnetron sputtered tantalum oxynitride thin films, as function of deposition parameters Full Text
AUTORES: Cristea, D; Patru, M; Crisan, A; Munteanu, D; Craciun, D; Barradas, NP; Alves, E; Apreutesei, M; Moura, C; Cunha, L;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: 9th International Conference on Materials Science and Engineering (BRAMAT) in APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 358
AUTORES: Cristea, D; Patru, M; Crisan, A; Munteanu, D; Craciun, D; Barradas, NP; Alves, E; Apreutesei, M; Moura, C; Cunha, L;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: 9th International Conference on Materials Science and Engineering (BRAMAT) in APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 358
242
TÃTULO: Optical properties of zirconium oxynitride films: The effect of composition, electronic and crystalline structures Full Text
AUTORES: Carvalho, P; Borges, J; Rodrigues, MS; Barradas, NP; Alves, E; Espinos, JP; Gonzalez Elipe, AR; Cunha, L; Marques, L; Vasilevskiy, MI; Vaz, F;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: 9th International Conference on Materials Science and Engineering (BRAMAT) in APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 358
AUTORES: Carvalho, P; Borges, J; Rodrigues, MS; Barradas, NP; Alves, E; Espinos, JP; Gonzalez Elipe, AR; Cunha, L; Marques, L; Vasilevskiy, MI; Vaz, F;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: 9th International Conference on Materials Science and Engineering (BRAMAT) in APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 358
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TÃTULO: The effect of metal-rich growth conditions on the microstructure of ScxGa1-xN films grown using molecular beam epitaxy. Effect of metal-rich growth conditions on the microstructure of ScxGa1−xN films Full Text
AUTORES: Tsui, HCL; Goff, LE; Barradas, NP; Alves, E; Pereira, S; Beere, HE; Farrer, I; Nicoll, CA; Ritchie, DA; Moram, MA;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE, VOLUME: 212, NÚMERO: 12
AUTORES: Tsui, HCL; Goff, LE; Barradas, NP; Alves, E; Pereira, S; Beere, HE; Farrer, I; Nicoll, CA; Ritchie, DA; Moram, MA;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE, VOLUME: 212, NÚMERO: 12
244
TÃTULO: Structural characterization of dual ion implantation in silicon Full Text
AUTORES: Nunes, B; Franco, N; Botelho do Rego, AMB; Alves, E; Colaco, R;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 365
AUTORES: Nunes, B; Franco, N; Botelho do Rego, AMB; Alves, E; Colaco, R;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 365
245
TÃTULO: Growth of mixed materials in the Be/W/O system in fusion devices
AUTORES: Mateus, R; Carvalho, PA; Franco, N; Alves, E; Porosnicu, C; Lungu, CP;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: Microscopy and Microanalysis, VOLUME: 21, NÚMERO: S6
AUTORES: Mateus, R; Carvalho, PA; Franco, N; Alves, E; Porosnicu, C; Lungu, CP;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: Microscopy and Microanalysis, VOLUME: 21, NÚMERO: S6
246
TÃTULO: PIC simulations of collisionless shocks in laboratory-scaled mini magnetospheres
AUTORES: Cruz, F; Alves, EP; Bamford, RA; Bingham, R; Fonseca, R; Silva, LO;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: 42nd European Physical Society Conference on Plasma Physics, EPS 2015 in 42nd European Physical Society Conference on Plasma Physics, EPS 2015
AUTORES: Cruz, F; Alves, EP; Bamford, RA; Bingham, R; Fonseca, R; Silva, LO;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: 42nd European Physical Society Conference on Plasma Physics, EPS 2015 in 42nd European Physical Society Conference on Plasma Physics, EPS 2015
INDEXADO EM: 
Scopus
Scopus NO MEU: 
ORCID
ORCID247
TÃTULO: Helium/Deuterium blistering in a W-Tafiber composite consolidated by pulse plasma sintering
AUTORES: Dias, M; Catarino, N; Nunes, D; Franco, N; Rosinski, M; J.B Correia; P.A Carvalho; Alves, E;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: Microscopy and Microanalysis, VOLUME: 21, NÚMERO: S6
AUTORES: Dias, M; Catarino, N; Nunes, D; Franco, N; Rosinski, M; J.B Correia; P.A Carvalho; Alves, E;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: Microscopy and Microanalysis, VOLUME: 21, NÚMERO: S6
248
TÃTULO: Single and dual ion implantation of c:Si with Fe+ and C+: microstructural characterization
AUTORES: Nunes, B; Alves, E; Colaço, R;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: Microscopy and Microanalysis, VOLUME: 21, NÚMERO: S6
AUTORES: Nunes, B; Alves, E; Colaço, R;
PUBLICAÇÃO: 2015, FONTE: Microscopy and Microanalysis, VOLUME: 21, NÚMERO: S6
249
TÃTULO: Ion beam induced epitaxial crystallization of alpha-Al2O3 at room temperature Full Text
AUTORES: Younes Sina; Manabu Ishimaru; Carl J McHargue; Eduardo Alves; Kurt E Sickafus;
PUBLICAÇÃO: 2014, FONTE: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 321
AUTORES: Younes Sina; Manabu Ishimaru; Carl J McHargue; Eduardo Alves; Kurt E Sickafus;
PUBLICAÇÃO: 2014, FONTE: NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS IN PHYSICS RESEARCH SECTION B-BEAM INTERACTIONS WITH MATERIALS AND ATOMS, VOLUME: 321
250
TÃTULO: Electrochemical behaviour of nanocomposite Ag-x:TiN thin films for dry biopotential electrodes Full Text
AUTORES: Pedrosa, P; Alves, E; Barradas, NP; Martin, N; Fiedler, P; Haueisen, J; Vaz, F; Fonseca, C ;
PUBLICAÇÃO: 2014, FONTE: ELECTROCHIMICA ACTA, VOLUME: 125
AUTORES: Pedrosa, P; Alves, E; Barradas, NP; Martin, N; Fiedler, P; Haueisen, J; Vaz, F; Fonseca, C ;
PUBLICAÇÃO: 2014, FONTE: ELECTROCHIMICA ACTA, VOLUME: 125
