Norbert Schell
AuthID: R-00F-A53
31
TÃTULO: Characterization of Sputtered Shape Memory Alloy Ni-Ti Films by Cross-sectional TEM and SEM
AUTORES: Martins, RMS ; Muecklich, A; Schell, N; Silva, RJC ; Mahesh, KK; Braz Fernandes, FMB ;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: MICROSCOPY AND MICROANALYSIS, VOLUME: 14, NÚMERO: SUPPL. 3
AUTORES: Martins, RMS ; Muecklich, A; Schell, N; Silva, RJC ; Mahesh, KK; Braz Fernandes, FMB ;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: MICROSCOPY AND MICROANALYSIS, VOLUME: 14, NÚMERO: SUPPL. 3
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TÃTULO: IN-SITU STUDY OF THE PREFERENTIAL ORIENTATION OF MAGNETRON SPUTTERED Ni-Ti THIN FILMS AS A FUNCTION OF BIAS AND SUBSTRATE TYPE
AUTORES: Rui M S Martins; Norbert Schell; Manfred Beckers; Arndt Muecklich; Helfried Reuther; Rui J C Silva; Karimbi K Mahesh; Braz M B Fernandes;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: International Conference on Shape Memory and Superelastic Technologies in SMST 2006: PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL CONFERENCE ON SHAPE MEMORY AND SUPERELASTIC TECHNOLOGIES
AUTORES: Rui M S Martins; Norbert Schell; Manfred Beckers; Arndt Muecklich; Helfried Reuther; Rui J C Silva; Karimbi K Mahesh; Braz M B Fernandes;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: International Conference on Shape Memory and Superelastic Technologies in SMST 2006: PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL CONFERENCE ON SHAPE MEMORY AND SUPERELASTIC TECHNOLOGIES
INDEXADO EM: 
WOS
WOS33
TÃTULO: The dependence of the nanostructure of magnetron sputtered Cu-Ag alloy films on composition and temperature
AUTORES: Pagh P Almtoft; Ejsing, AM; Bottiger, J; Chevallier, J; Schell, N; Martins, RMS;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH, VOLUME: 22, NÚMERO: 4
AUTORES: Pagh P Almtoft; Ejsing, AM; Bottiger, J; Chevallier, J; Schell, N; Martins, RMS;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH, VOLUME: 22, NÚMERO: 4
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TÃTULO: Nucleation and growth of Ti2AlN thin films deposited by reactive magnetron sputtering onto MgO(111) Full Text
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Muecklich, A; Moeller, W; Hultman, L;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 102, NÚMERO: 7
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Muecklich, A; Moeller, W; Hultman, L;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 102, NÚMERO: 7
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TÃTULO: Microstructure and nonbasal-plane growth of epitaxial Ti2AlN thin films Full Text
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W; Hultman, L;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 99, NÚMERO: 3
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W; Hultman, L;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 99, NÚMERO: 3
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TÃTULO: Phase stability of epitaxially grown Ti2AlN thin films Full Text
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Muecklich, A; Moeller, W;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 89, NÚMERO: 7
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Muecklich, A; Moeller, W;
PUBLICAÇÃO: 2006, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 89, NÚMERO: 7
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TÃTULO: The influence of the growth rate on the preferred orientation of magnetron-sputtered Ti-Al-N thin films studied by in situ x-ray diffraction Full Text
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 98, NÚMERO: 4
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 98, NÚMERO: 4
38
TÃTULO: Influence of the substrate bias on the size and thermal stability of grains in magnetron-sputtered nanocrystalline Ag films
AUTORES: Almtoft, KP; Bottiger, J; Chevallier, J; Schell, N; Martins, RMS;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH, VOLUME: 20, NÚMERO: 4
AUTORES: Almtoft, KP; Bottiger, J; Chevallier, J; Schell, N; Martins, RMS;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH, VOLUME: 20, NÚMERO: 4
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TÃTULO: In situ x-ray diffraction studies concerning the influence of Al concentration on the texture development during sputter deposition of Ti-Al-N thin films
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, VOLUME: 23, NÚMERO: 5
AUTORES: Beckers, M; Schell, N; Martins, RMS; Mucklich, A; Moller, W;
PUBLICAÇÃO: 2005, FONTE: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, VOLUME: 23, NÚMERO: 5
