J.e Bour?E
AuthID: R-00G-1AP
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TÃTULO: Deposition of silicon nitride thin films by hot-wire CVD at 100 °C and 250 °C Full Text
AUTORES: Alpuim, P; L.M Gonçalves; E.S Marins; T.M.R Viseu; Ferdov, S; J.E Bourée;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 517, NÚMERO: 12
AUTORES: Alpuim, P; L.M Gonçalves; E.S Marins; T.M.R Viseu; Ferdov, S; J.E Bourée;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 517, NÚMERO: 12
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