Tetsuo Kodera
AuthID: R-00G-97W
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TÃTULO: Size Reduction and Phosphorus Doping of Silicon Nanocrystals Prepared by a Very High Frequency Plasma Deposition System
AUTORES: Yoshifumi Nakamine; Naoki Inaba; Tetsuo Kodera; Ken Uchida; Rui N Pereira; Andre R Stegner; Martin S Brandt; Martin Stutzman; Shunri Oda;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 50, NÚMERO: 2
AUTORES: Yoshifumi Nakamine; Naoki Inaba; Tetsuo Kodera; Ken Uchida; Rui N Pereira; Andre R Stegner; Martin S Brandt; Martin Stutzman; Shunri Oda;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 50, NÚMERO: 2
