Chandra C. Sekhar


AuthID: R-00G-HB8

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TÍTULO: Post-deposition annealing influenced structural and electrical properties of Al/TiO2/Si gate capacitors  Full Text
AUTORES: Chandra C Sekhar; Kondaiah, P; Mohan M Rao; Jagadeesh V J Chandra; Uthanna, S;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: SUPERLATTICES AND MICROSTRUCTURES, VOLUME: 62
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef

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