Mohan M. Rao


AuthID: R-00G-HB9

Publicações a aguardar confirmação

1
TÍTULO: Post-deposition annealing influenced structural and electrical properties of Al/TiO2/Si gate capacitors  Full Text
AUTORES: Chandra C Sekhar; Kondaiah, P; Mohan M Rao; Jagadeesh V J Chandra; Uthanna, S;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: SUPERLATTICES AND MICROSTRUCTURES, VOLUME: 62
INDEXADO EM: Scopus WOS CrossRef

Um espaço para investigadores e suas Instituições

Links Úteis

Ajuda

© 2024 CRACS & Inesc TEC - All Rights Reserved Política de Privacidade | Terms of Service