Luis Manuel Fernandes Rebouta


AuthID: R-000-9KV

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TÍTULO: Hydrogenated amorphous and nanocrystalline silicon solar cells deposited by HWCVD and RF-PECVD on plastic substrates at 150 degrees C  Full Text
AUTORES: Filonovich, SA ; Alpuim, P ; Rebouta, L ; E Bouree; Soro, YM;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: 22nd International Conference on Amorphous and Nanocrystalline Semiconductors in JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS, VOLUME: 354, NÚMERO: 19-25
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TÍTULO: Modulated IR radiometry of (TiSi)N thin films  Full Text
AUTORES: Macedo, F ; Vaz, F ; Rebouta, L ; Carvalho, P; Haj Daoud, A; Junge, KH; Pelzl, J; Bein, BK;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: 5th Iberian Vacuum Meeting in VACUUM, VOLUME: 82, NÚMERO: 12
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TÍTULO: Structural and Mechanical Properties of AZOY Thin Films Deposited on Flexible Substrates
AUTORES: Oliveira, C; Costa, CM; Rebouta, L ; Viseu, T ; De Lacerda Aroso, T; Lanceros Mendez, S ; Alves, E ;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: 13th Conference of the Sociedade-Portuguesa-de-Materiais/4th International Materials Symposium in ADVANCED MATERIALS FORUM IV, VOLUME: 587-588
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TÍTULO: Transmission electron microscopy analysis of the interfaces of TiAlN/Mo multilayers
AUTORES: Tavares, CJ ; Rebouta, L ; Riviere, JP; Denanot, MF;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: MICROSCOPY AND MICROANALYSIS, VOLUME: 14, NÚMERO: SUPPL. 3
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TÍTULO: Influence of the O/C ratio in the behaviour of TiCxOy thin films  Full Text
AUTORES: Fernandes, AC; Vaz, F ; Rebouta, L ; Pinto, A; Alves, E ; Parreira, NMG; Ph. Goudeau; Le Bourhis, E; Riviere, JP;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: 5th Asian/European International Conference on Plasma Surface Engineering in SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 201, NÚMERO: 9-11
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TÍTULO: Reactive sputtering deposition of photocatalytic TiO2 thin films on glass substrates  Full Text
AUTORES: Tavares, CJ ; Vieira, J; Rebouta, L ; Hungerford, G; Coutinho, P ; Teixeira, V ; Carneiro, JO ; Fernandes, AJ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: SVC 2nd Symposium on Smart Materials in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY, VOLUME: 138, NÚMERO: 2
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TÍTULO: Reactive sputtering of TiOxNy coatings by the reactive gas pulsing process Part II: The role of the duty cycle  Full Text
AUTORES: Martin, N; Lintymer, J; Gavoille, J; Chappe, JM; Sthal, F; Takadoum, J; Vaz, F ; Rebouta, L ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 201, NÚMERO: 18
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TÍTULO: Reactive sputtering of TiOxNy coatings by the reactive gas pulsing process. Part I: Pattern and period of pulses  Full Text
AUTORES: Martin, N; Lintymer, J; Gavoille, J; Chappe, JM; Sthal, F; Takadoum, J; Vaz, F ; Rebouta, L ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 201, NÚMERO: 18
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TÍTULO: Reactive sputtering of TiOxNy coatings by the reactive gas pulsing process: Part III: The particular case of exponential pulses  Full Text
AUTORES: Martin, N; Lintymer, J; Gavoille, J; Chappe, JM; Sthal, F; Takadoum, J; Vaz, F ; Rebouta, L ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 201, NÚMERO: 18
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