Manuel Armando Oliveira Pereira dos Santos
AuthID: R-000-A1H
31
TÃTULO: Structure effect on electrical properties of ITO films prepared by rf reactive magnetron sputtering
AUTORES: Meng, LJ; dosSantos, MP;
PUBLICAÇÃO: 1996, FONTE: Symposium on Thin Films for Photovoltaic and Related Device Applications, at the 1996 MRS Spring Meeting in THIN FILMS FOR PHOTOVOLTAIC AND RELATED DEVICE APPLICATIONS, VOLUME: 426
AUTORES: Meng, LJ; dosSantos, MP;
PUBLICAÇÃO: 1996, FONTE: Symposium on Thin Films for Photovoltaic and Related Device Applications, at the 1996 MRS Spring Meeting in THIN FILMS FOR PHOTOVOLTAIC AND RELATED DEVICE APPLICATIONS, VOLUME: 426
32
TÃTULO: Stress analysis of titanium dioxide films by Raman scattering and x-ray diffraction methods
AUTORES: Li-jian Meng; dos Santos, MP;
PUBLICAÇÃO: 1996, FONTE: Proceedings of the 1996 MRS Spring Meeting in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 436
AUTORES: Li-jian Meng; dos Santos, MP;
PUBLICAÇÃO: 1996, FONTE: Proceedings of the 1996 MRS Spring Meeting in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 436
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33
TÃTULO: CHARACTERIZATION OF ZNO FILMS PREPARED BY DE REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING AT DIFFERENT OXYGEN PARTIAL PRESSURES Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: 4th European Vacuum Conference (EVC-4)1st Swedish Vacuum Meeting (SVM-1) in VACUUM, VOLUME: 46, NÚMERO: 8-10
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: 4th European Vacuum Conference (EVC-4)1st Swedish Vacuum Meeting (SVM-1) in VACUUM, VOLUME: 46, NÚMERO: 8-10
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34
TÃTULO: DEPOSITION AND PROPERTIES OF TITANIUM NITRIDE FILMS PRODUCED BY DC REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; AZEVEDO, A; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: VACUUM, VOLUME: 46, NÚMERO: 3
AUTORES: MENG, LJ ; AZEVEDO, A; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1995, FONTE: VACUUM, VOLUME: 46, NÚMERO: 3
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35
TÃTULO: THE INFLUENCE OF OXYGEN PARTIAL-PRESSURE AND TOTAL PRESSURE (O2+AR) ON THE PROPERTIES OF TIN OXIDE-FILMS PREPARED BY DC SPUTTERING Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: VACUUM, VOLUME: 45, NÚMERO: 12
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
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36
TÃTULO: DIRECT-CURRENT REACTIVE MAGNETRON-SPUTTERED ZINC-OXIDE THIN-FILMS - THE EFFECT OF THE SPUTTERING PRESSURE Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 250, NÚMERO: 1-2
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
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37
TÃTULO: STUDY OF THE STRUCTURAL-PROPERTIES OF ZNO THIN-FILMS BY X-RAY PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; DESA, CPM ; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 78, NÚMERO: 1
AUTORES: MENG, LJ ; DESA, CPM ; DOSSANTOS, MP;
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38
TÃTULO: STUDY OF POROSITY OF TITANIUM-OXIDE FILMS BY X-RAY PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY AND IR TRANSMITTANCE Full Text
AUTORES: MENG, LJ; DESA, CPM; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 239, NÚMERO: 1
AUTORES: MENG, LJ; DESA, CPM; DOSSANTOS, MP;
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39
TÃTULO: Study of the structural properties of TiO2 films by scanning electron microscopy
AUTORES: MENG, LJ; SANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: 13th International Congress on Electron Microscopy in ELECTRON MICROSCOPY 1994, VOLS 2A AND 2B: APPLICATIONS IN MATERIALS SCIENCES
AUTORES: MENG, LJ; SANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: 13th International Congress on Electron Microscopy in ELECTRON MICROSCOPY 1994, VOLS 2A AND 2B: APPLICATIONS IN MATERIALS SCIENCES
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40
TÃTULO: THE EFFECT OF SUBSTRATE-TEMPERATURE ON THE PROPERTIES OF SPUTTERED TIN OXIDE-FILMS Full Text
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
PUBLICAÇÃO: 1994, FONTE: THIN SOLID FILMS, VOLUME: 237, NÚMERO: 1-2
AUTORES: MENG, LJ ; DOSSANTOS, MP;
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