Rodrigo Ferrao Paiva Martins
AuthID: R-000-FKV
391
TÃTULO: Subharmonic oscillations for some second-order differential equations without Landesman-Lazer conditions
AUTORES: Do Rosario Grossinho, M ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 2000 International Conference on Dynamical Systems and Differential Equations in Proceedings of the International Conference on Dynamical Systems and Differential Equations, NÚMERO: SPEC. ISSUE
AUTORES: Do Rosario Grossinho, M ; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 2000 International Conference on Dynamical Systems and Differential Equations in Proceedings of the International Conference on Dynamical Systems and Differential Equations, NÚMERO: SPEC. ISSUE
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TÃTULO: Materials Science Forum: Preface
AUTORES: Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 4th European Workshop on Dusty and Colloidal Plasmas in Materials Science Forum, VOLUME: 382
AUTORES: Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: 4th European Workshop on Dusty and Colloidal Plasmas in Materials Science Forum, VOLUME: 382
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TÃTULO: Thin film metal oxide semiconductors deposited on polymeric substrates
AUTORES: Fortunato, E; Nunes, P; Marques, A; Costa, D; Aguas, H; Ferreira, I; Costa, MEV; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Transport and Microstructural Phenomena in Oxide Electronics in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 666
AUTORES: Fortunato, E; Nunes, P; Marques, A; Costa, D; Aguas, H; Ferreira, I; Costa, MEV; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Transport and Microstructural Phenomena in Oxide Electronics in Materials Research Society Symposium - Proceedings, VOLUME: 666
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TÃTULO: New Steps to Improve a-Si:H Device Stability by Design of the Interfaces Full Text
AUTORES: Martins, R; Ferreira, I; Cabrita, A; Águas, H; Silva, V; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials - Adv. Eng. Mater., VOLUME: 3, NÚMERO: 3
AUTORES: Martins, R; Ferreira, I; Cabrita, A; Águas, H; Silva, V; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Advanced Engineering Materials - Adv. Eng. Mater., VOLUME: 3, NÚMERO: 3
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CrossRef395
TÃTULO: Influence of the process parameters on structural and electrical properties of r.f. magnetron sputtering ITO films Full Text
AUTORES: Baía, I; Fernandes, B; Nunes, P; Quintela, M; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 383, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Baía, I; Fernandes, B; Nunes, P; Quintela, M; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Thin Solid Films, VOLUME: 383, NÚMERO: 1-2
396
TÃTULO: Role of ion bombardment on the properties of a-Si:H films Full Text
AUTORES: Hugo Águas; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Hugo Águas; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Vacuum, VOLUME: 60, NÚMERO: 1-2
397
TÃTULO: Fast and cheap method to qualitatively measure the thickness and uniformity of ZrO2 thin films Full Text
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
AUTORES: Hugo Águas; António Marques; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science in Semiconductor Processing, VOLUME: 4, NÚMERO: 1-3
398
TÃTULO: Influence of the Plasma Regime on the Structural, Optical, Electrical and Morphological Properties of a-Si:H Thin Films
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
AUTORES: Hugo Águas; Rodrigo Martins; Yuri Nunes ; Manuel J.P Maneira; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2001, FONTE: Materials Science Forum, VOLUME: 382
399
TÃTULO: Silicon films produced by PECVD under powder formation conditions
AUTORES: Martins, R; Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Collidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382
AUTORES: Martins, R; Aguas, H ; Silva, V; Ferreira, I; Cabrita, A; Fortunato, E ;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: 5th European Workshop on Dusty and Collidal Plasmas in PLASMA PROCESSING AND DUSTY PARTICLES, VOLUME: 382
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TÃTULO: Plasma diagnostics of a PECVD system using different R.F. electrode configurations Full Text
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
AUTORES: Águas, H; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2000, FONTE: Vacuum, VOLUME: 56, NÚMERO: 1
