Jean-Marie Chappé
AuthID: R-000-HZW
1
TÃTULO: Tribocorrosion behavior of Ti-C-O-N nanostructured thin films (black) for decorative applications Full Text
AUTORES: Lima, P; Araujo, M; Mathew, MT; Rocha, LA; Pinto, AM; Chappe, JM; Ramos, MD; Marques, L ; Pierson, JF; Vaz, F ;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: TRIBOLOGY INTERNATIONAL, VOLUME: 68
AUTORES: Lima, P; Araujo, M; Mathew, MT; Rocha, LA; Pinto, AM; Chappe, JM; Ramos, MD; Marques, L ; Pierson, JF; Vaz, F ;
PUBLICAÇÃO: 2013, FONTE: TRIBOLOGY INTERNATIONAL, VOLUME: 68
2
TÃTULO: Friction and wear behaviours of Ti(C,O,N) dark decorative coatings Full Text
AUTORES: Munteanu, D; Gabor, C; Constantin, DG; Varga, B; Adochite, R; Andrei, OC; Chappe, JM; Cunha, L ; Moura, C ; Vaz, F ;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: TRIBOLOGY INTERNATIONAL, VOLUME: 44, NÚMERO: 7-8
AUTORES: Munteanu, D; Gabor, C; Constantin, DG; Varga, B; Adochite, R; Andrei, OC; Chappe, JM; Cunha, L ; Moura, C ; Vaz, F ;
PUBLICAÇÃO: 2011, FONTE: TRIBOLOGY INTERNATIONAL, VOLUME: 44, NÚMERO: 7-8
3
TÃTULO: Plasma Surface Modification of Polycarbonate and Poly(propylene) Substrates for Biomedical Electrodes Full Text
AUTORES: Paulo Pedrosa; Jean Marie Chappe; Carlos Fonseca ; Ana Vera Machado ; Joao Miguel Nobrega ; Filipe Vaz ;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: PLASMA PROCESSES AND POLYMERS, VOLUME: 7, NÚMERO: 8
AUTORES: Paulo Pedrosa; Jean Marie Chappe; Carlos Fonseca ; Ana Vera Machado ; Joao Miguel Nobrega ; Filipe Vaz ;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: PLASMA PROCESSES AND POLYMERS, VOLUME: 7, NÚMERO: 8
4
TÃTULO: Tribological characterisation of magnetron sputtered Ti(C, O, N) thin films
AUTORES: Olteanu, C; Munteanu, D; Ionescu, C; Munteanu, A; Chappe, JM; Cunha, L ; Vaz, F ;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF MATERIALS & PRODUCT TECHNOLOGY, VOLUME: 39, NÚMERO: 1-2
AUTORES: Olteanu, C; Munteanu, D; Ionescu, C; Munteanu, A; Chappe, JM; Cunha, L ; Vaz, F ;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: INTERNATIONAL JOURNAL OF MATERIALS & PRODUCT TECHNOLOGY, VOLUME: 39, NÚMERO: 1-2
5
TÃTULO: Structure and Chemical Bonds in Black Ti(C,N,O) Thin Films Full Text
AUTORES: Marco de Lucas, MC; Chappé, JM; Cunha, L ; Moura, C; Pierson, JF; Imhoff, L; Potin, V; Bourgeois, S; Vaz, F ; Champion, PM; Ziegler, LD;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: 22nd International Conference on Raman Spectroscopy in XXII INTERNATIONAL CONFERENCE ON RAMAN SPECTROSCOPY, VOLUME: 1267
AUTORES: Marco de Lucas, MC; Chappé, JM; Cunha, L ; Moura, C; Pierson, JF; Imhoff, L; Potin, V; Bourgeois, S; Vaz, F ; Champion, PM; Ziegler, LD;
PUBLICAÇÃO: 2010, FONTE: 22nd International Conference on Raman Spectroscopy in XXII INTERNATIONAL CONFERENCE ON RAMAN SPECTROSCOPY, VOLUME: 1267
6
TÃTULO: Properties changes of Ti(C, O, N) films prepared by PVD: the effect of reactive gases partial pressure
AUTORES: Cunha, L ; Moura, C ; Vaz, F ; M Chappe; Olteanu, C; Munteanu, D; Munteanu, A;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, VOLUME: 11, NÚMERO: 7
AUTORES: Cunha, L ; Moura, C ; Vaz, F ; M Chappe; Olteanu, C; Munteanu, D; Munteanu, A;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: JOURNAL OF OPTOELECTRONICS AND ADVANCED MATERIALS, VOLUME: 11, NÚMERO: 7
INDEXADO EM: 
Scopus 
WOS
Scopus WOS7
TÃTULO: Study on the Thermal Stability of Ti(C,O,N) Decorative Coatings Full Text
AUTORES: Cacilda Moura ; Luis Cunha ; Jean Marie Chappe; Filipe Vaz ;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: 11th International Conference on Plasma Surface Engineering in PLASMA PROCESSES AND POLYMERS, VOLUME: 6, NÚMERO: SUPPL. 1
AUTORES: Cacilda Moura ; Luis Cunha ; Jean Marie Chappe; Filipe Vaz ;
PUBLICAÇÃO: 2009, FONTE: 11th International Conference on Plasma Surface Engineering in PLASMA PROCESSES AND POLYMERS, VOLUME: 6, NÚMERO: SUPPL. 1
8
TÃTULO: Influence of the chemical and electronic structure on the electrical behavior of zirconium oxynitride films Full Text
AUTORES: Carvalho, P; Chappe, JM; Cunha, L ; Lanceros Mendez, S; Alpuim, P ; Vaz, F ; Alves, E ; Rousselot, C; Espinos, JP; Gonzalez Elipe, AR;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 103, NÚMERO: 10
AUTORES: Carvalho, P; Chappe, JM; Cunha, L ; Lanceros Mendez, S; Alpuim, P ; Vaz, F ; Alves, E ; Rousselot, C; Espinos, JP; Gonzalez Elipe, AR;
PUBLICAÇÃO: 2008, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 103, NÚMERO: 10
9
TÃTULO: Reactive sputtering of TiOxNy coatings by the reactive gas pulsing process. Part I: Pattern and period of pulses Full Text
AUTORES: Martin, N; Lintymer, J; Gavoille, J; Chappe, JM; Sthal, F; Takadoum, J; Vaz, F ; Rebouta, L ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 201, NÚMERO: 18
AUTORES: Martin, N; Lintymer, J; Gavoille, J; Chappe, JM; Sthal, F; Takadoum, J; Vaz, F ; Rebouta, L ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 201, NÚMERO: 18
10
TÃTULO: Reactive sputtering of TiOxNy coatings by the reactive gas pulsing process: Part III: The particular case of exponential pulses Full Text
AUTORES: Martin, N; Lintymer, J; Gavoille, J; Chappe, JM; Sthal, F; Takadoum, J; Vaz, F ; Rebouta, L ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 201, NÚMERO: 18
AUTORES: Martin, N; Lintymer, J; Gavoille, J; Chappe, JM; Sthal, F; Takadoum, J; Vaz, F ; Rebouta, L ;
PUBLICAÇÃO: 2007, FONTE: SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, VOLUME: 201, NÚMERO: 18
