Elvira Maria Correia Fortunato
AuthID: R-000-4M5
301
TÃTULO: Transparent field-effect transistors based on AlN-gate dielectric and IGZO-channel semiconductor Full Text
AUTORES: Besleaga, C; Stan, GE; Pintilie, I; Barquinha, P; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: Applied Surface Science, VOLUME: 379
AUTORES: Besleaga, C; Stan, GE; Pintilie, I; Barquinha, P; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: Applied Surface Science, VOLUME: 379
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TÃTULO: Exploring the potential of laser assisted flow deposition grown ZnO for photovoltaic applications Full Text
AUTORES: Rodrigues, J; Cerqueira, AFR; Sousa, MG; Santos, NF; Pimentel, A; Fortunato, E; da Cunha, AF; Monteiro, T; Costa, FM;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, VOLUME: 177
AUTORES: Rodrigues, J; Cerqueira, AFR; Sousa, MG; Santos, NF; Pimentel, A; Fortunato, E; da Cunha, AF; Monteiro, T; Costa, FM;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, VOLUME: 177
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TÃTULO: Eco-friendly, solution-processed In-W-O thin films and their applications in low-voltage, high-performance transistors Full Text
AUTORES: Ao Liu; Guoxia X Liu; Huihui H Zhu; Byoungchul Shin; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins; Fukai K Shan;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, VOLUME: 4, NÚMERO: 20
AUTORES: Ao Liu; Guoxia X Liu; Huihui H Zhu; Byoungchul Shin; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins; Fukai K Shan;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY C, VOLUME: 4, NÚMERO: 20
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TÃTULO: The influence of target erosion grade in the optoelectronic properties of AZO coatings growth by magnetron sputtering Full Text
AUTORES: Zubizarreta, C; Berasategui, EG; Ciarsolo, I; Barriga, J; Gaspar, D; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: 10th International Conference on Surfaces, Coatings and Nano-Structured Materials (NANOSMAT) in APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 380
AUTORES: Zubizarreta, C; Berasategui, EG; Ciarsolo, I; Barriga, J; Gaspar, D; Martins, R; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: 10th International Conference on Surfaces, Coatings and Nano-Structured Materials (NANOSMAT) in APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 380
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TÃTULO: Transparent field-effect transistors based on AlN-gate dielectric and IGZO-channel semiconductor Full Text
AUTORES: Besleaga, C; Stan, GE; Pintilie, I; Barquinha, P; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 379
AUTORES: Besleaga, C; Stan, GE; Pintilie, I; Barquinha, P; Fortunato, E; Martins, R;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: APPLIED SURFACE SCIENCE, VOLUME: 379
INDEXADO EM: WOS
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TÃTULO: Design of optimized wave-optical spheroidal nanostructures for photonic-enhanced solar cells Full Text
AUTORES: Manuel J Mendes; Andreia Araujo; Antonio Vicente; Hugo Aguas; Isabel Ferreira; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: NANO ENERGY, VOLUME: 26
AUTORES: Manuel J Mendes; Andreia Araujo; Antonio Vicente; Hugo Aguas; Isabel Ferreira; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: NANO ENERGY, VOLUME: 26
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TÃTULO: Hole mobility modulation of solution-processed nickel oxide thin-film transistor based on high-k dielectric Full Text
AUTORES: Ao Liu; Guoxia X Liu; Huihui H Zhu; Byoungchul Shin; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins; Fukai K Shan;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 108, NÚMERO: 23
AUTORES: Ao Liu; Guoxia X Liu; Huihui H Zhu; Byoungchul Shin; Elvira Fortunato; Rodrigo Martins; Fukai K Shan;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: APPLIED PHYSICS LETTERS, VOLUME: 108, NÚMERO: 23
308
TÃTULO: Influence of Channel Length Scaling on InGaZnO TFTs Characteristics: Unity Current-Gain Cutoff Frequency, Intrinsic Voltage-Gain, and On-Resistance Full Text
AUTORES: Pydi Ganga Bahubalindruni ; Asal Kiazadeh; Allegra Sacchetti; Jorge Martins ; Ana Rovisco; Vitor Grade Tavares ; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato; Pedro Barquinha;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF DISPLAY TECHNOLOGY, VOLUME: 12, NÚMERO: 6
AUTORES: Pydi Ganga Bahubalindruni ; Asal Kiazadeh; Allegra Sacchetti; Jorge Martins ; Ana Rovisco; Vitor Grade Tavares ; Rodrigo Martins; Elvira Fortunato; Pedro Barquinha;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF DISPLAY TECHNOLOGY, VOLUME: 12, NÚMERO: 6
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TÃTULO: Substrate reactivity as the origin of Fermi level pinning at the Cu2O/ALD-Al2O3 interface
AUTORES: Deuermeier, J; Bayer, TJM; Yanagi, H; Kiazadeh, A; Martins, R; Klein, A; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: MATERIALS RESEARCH EXPRESS, VOLUME: 3, NÚMERO: 4
AUTORES: Deuermeier, J; Bayer, TJM; Yanagi, H; Kiazadeh, A; Martins, R; Klein, A; Fortunato, E;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: MATERIALS RESEARCH EXPRESS, VOLUME: 3, NÚMERO: 4
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TÃTULO: Highly conductive grain boundaries in copper oxide thin films Full Text
AUTORES: Jonas Deuermeier; Hans F Wardenga; Jan Morasch; Sebastian Siol; Suman Nandy; Tomas Calmeiro; Rodrigo Martins; Andreas Klein; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 119, NÚMERO: 23
AUTORES: Jonas Deuermeier; Hans F Wardenga; Jan Morasch; Sebastian Siol; Suman Nandy; Tomas Calmeiro; Rodrigo Martins; Andreas Klein; Elvira Fortunato;
PUBLICAÇÃO: 2016, FONTE: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, VOLUME: 119, NÚMERO: 23